Gebraucht CANON FPA 6000 ES6a #9305230 zu verkaufen

CANON FPA 6000 ES6a Wafer Stepper ist eine vielseitige, benutzerfreundliche Lithographie-Maschine, die in der Halbleiterherstellung verwendet wird. Es ist ein dedizierter Wafer-Stepper von CANON Inc., einem führenden Hersteller von High-End-Bildverarbeitungsgeräten. Diese Maschine ist für hohe Präzision und hohe Produktivität ausgelegt. Es verfügt über eine einzigartige Konfiguration von optischen Komponenten und Computersteuerungen, die es ermöglichen, hervorragende Wafer-Muster mit Submikron-Auflösung zu erzeugen. Das Gerät verfügt über einen hochmodernen rotierenden Scanmechanismus mit computergesteuerten planaren Einstellungen, die eine effiziente und präzise Ausrichtung der Maske auf den Wafer ermöglichen. Mit seiner Fähigkeit, nahtlos zwischen großen und kleinen Blickfeldern zu wechseln, bietet das ES6a unübertroffene Flexibilität. Das Optikmodul der Vorrichtung ist mit einer Vielzahl von Linsen ausgestattet, die sicherstellen, dass das projizierte Muster außergewöhnlich genau ist. Das System ist vollständig kompatibel mit dem GDSII-Datenformat nach Branchenstandard, was eine einfache Datenübertragung und Kompatibilität mit Software von Drittanbietern ermöglicht. Neben seiner beeindruckenden Leistung ist CANON FPA 6000ES6A auch für eine einfache und intuitive Bedienung ausgelegt. Das System ist vollständig automatisiert, von der Exposition bis zur Ausrichtung bis zur Schritt-/Scanner-Steuerung, wodurch der manuelle Eingriff entfällt. Darüber hinaus ist die Maschine mit ihren vielfältigen Bedienungsmöglichkeiten ergonomisch für den Ingenieur konzipiert. Anpassungen wie Belichtungseinstellungen, Fokuspositionen und Bewegungssteuerungsparameter lassen sich über die Schnittstelle einfach anpassen. FPA-6000ES6A gewährleistet eine schnelle und präzise Herstellung perfekter Muster mit minimalem Bedienereinsatz und Aufwand. Mit seinem erstklassigen optischen Design, beispielloser Präzision und einfacher Bedienung ist CANON FPA-6000ES6A die ideale Wahl für die Produktion von hochvolumigen Halbleitern.