Gebraucht GCA ALS I2235 #9247980 zu verkaufen
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ID: 9247980
Stepper
Lens: TROPEL 2235
i-Line (365 nm): 0.35 NA
Field size: 22 mm
Automatic Wafer Handler (AWH): Cycle 25, 3"-8"
Automatic level wafers
RMS10: (10) Reticles, 5"
Maxi 2000: i-Line light source idles: 1000 W
AFS 100: Automatic Focusing System
MicroDFAS:
Measures local alignment system
Corrects alignment prior to stepping
SmartSet: Used to process and store data to match single / multiple steppers
Insitu probe:
Probe mounted stage and lens reduction
Rotation & focus with alignment baseline
IQ Probe:
Lamp position and light source
Accurate measure and correct dose
Programmable Platen Control (PPC):
Automatically adjust reticle load position
Integrated Alignment System (IAS):
Performs digital alignment of global target
Environmental chamber 8860 Stepper
With temperature & cleanliness
Options:
System resolution: 0.7 µm line / space
Depth of focus: 1.5 µm
Illumination uniformity: ±2.5 %
Illumination intensity: >300 mW / cm²
Open frame: No repeaters
Reduction: ±0.1 µm
Rotation: ≤0.05 µm
Telecintricity: ≤1.5 ppm / µm
Stepping repeatability: ≤0.15 µm
Global alignment: ±0.3 µm
Local alignment: ±0.2 µm
RMS reliability: 100 Cycles
Reticle blade accuracy: ±0.25 mm
AWH Reliability: 100 Wafers
AWH Accuracy: ±0.003”
Leveling repeatability: ±5 ppm from nominal.
GCA ALS I2235 ist ein Mikrolithographie-Wafer-Stepper zur Halbleiterherstellung und verwandten wissenschaftlichen Zwecken. Es wird von der GCA Corporation hergestellt und liefert hochgenaue, hochdurchsatzreiche, serienreiche Produktion. ALS I2235 enthält einen fünfachsigen Mechanismus, der eine vollständige Feldausrichtung ermöglicht und gleichzeitig verschiedene Chipgrößen, Formen und Komplexitätsstufen aufnimmt. Dies ermöglicht schnelle Ausrichtungsänderungen und Anpassungsfähigkeit der Produktkonfiguration. Es ist auch mit einem automatischen Aligner ausgestattet, um manuelle Prozesszeiten für eine präzise Ausrichtung der Bauteilebene zu reduzieren. Die zentrale Komponente von GCA ALS I2235, das GSX750 Exposure Tool, bietet eine 2500W Xenon-Lichtbogenlampe für überlegene Belichtungstemperaturen und ein proprietäres Präzisionsoptik-Kontrollsystem für beispiellose Genauigkeit. Die optische Steuerung bietet nicht nur kristallklare Bildgebung, sondern auch einen nahtlosen Overlay-Ausrichtungsprozess für die mehrstufige Photolithographie. ALS I2235 basiert auf einem Festkörperrahmen, um Vibrationen zu minimieren und gleichzeitig eine breite Palette von Chip-Lade- und Intra-Batch-Ausrichtungsfunktionen bereitzustellen, um die Genauigkeit und Skalierbarkeit von Batch zu Batch zu erhalten. Es bietet auch eine breite Palette von High-End-Produktivitätsmerkmalen, wie Wafer-Ebene und Muster-Ebene Ausrichtung zusammen mit Echtzeit-Fokus-Erkennung und Full-Field-Ausrichtung. GCA ALS I2235 verfügt über einen hocheffizienten Workflow, von Wafer über Waferausrichtung bis hin zu erweiterten Automatisierungsfunktionen wie programmierbare Chipgeometriefunktionen und mehrere Optionen zur Kantenerkennung. Diese Funktionen ermöglichen eine feinere Kontrolle des Mikrolithographie-Prozesses mit hoher Genauigkeit, Wiederholbarkeit und minimiertem manuellen Workflow. Darüber hinaus nutzt ALS I2235 eine Touchscreen-Bedienung und eine intuitive grafische Benutzeroberfläche für eine benutzerfreundliche Bedienung. Insgesamt ist GCA ALS I2235 ein idealer Wafer-Stepper für die Prozesssteuerung in der fortschrittlichen E-Beam und Photolithographie-Produktion und eignet sich gut für eine hochgenaue, schnelle und serienreiche Produktion. Seine verschiedenen Funktionen, einschließlich versed Automatisierung und ultra-hochauflösende Optik, bieten eine Plattform für spezialisierte und kontrollierte Halbleiterherstellung.
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