Gebraucht GCA ALS #293639853 zu verkaufen
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ID: 293639853
I-Line wafer stepper
Illumination uniformity: <= 2.5%
Maximum stage travel: 200 mm
System resolution: 0.65 μm L/S
Depth of focus: >= 0.98 μm
Reduction: +/- 0.10 µm
Rotation: <= 0.05 µm
Telecentricity: +/- 0.5 ppm
Global registration: +/- 0.30 µm T.I.R
Local registration: +/- 0.15 µm T.I.R
Open frame: No repeaters
Orthogonality: +/- 1.0 ppm
Stage precision: +/- 0.15 µm
Wafer levelling repeatability: +/- 10 ppm
Reticle aligner accuracy: <= 0.1 µm
Aperture blade repeatability: +/- 0.25 mm
Aperture blade skew: +/- 0.25 mm
RMS Realiability: 30 Cycles
AWH Precision: +/- 3.0 mils
AWH Reliability: 50 wafers
Focus repeatability: <= 0.30 µm T.I.R
Reduction repeatability: <= 6.0 ppm T.I.R
Optic:
Lens specification: 2145-I Tropel
Focal length: 86
Resolution: 0.65 µm
Image field: 24.1 mm
Wavelength: 365 mm
E.P Diameter: 49 mm
E.P. Location: 473 mm
Reduction: 1:5
Depth of focus: n+/- 0.5 µm.
GCA ALS ist ein Wafer-Stepper, der von der GCA Corporation für fortschrittliche Lithographieanwendungen entwickelt wurde. Der Stepper verfügt über eine computergesteuerte Waferstufe, die mit einer Wiederholbarkeit von 0,1 Mikron in X-, Y- und Z-Richtung fährt. Es hat eine extrem hohe Steifigkeit Basis, die für die höchste Präzision Ausrichtung und lithographische Genauigkeit ermöglicht. Dieser Stepper ist eine fortschrittliche und effiziente Ausrüstung, die eine schnelle und genaue Mikrolithographie für die Herstellung von nanoskaligen Strukturen und Geräten ermöglicht. Das fortschrittliche Linsensystem ermöglicht eine breite Palette von Funktionen, wie eine volle Feldbelichtung von 0,6 Mikron zu widerstehen. Der Schritt-hat auch einen low-temperature/high-accuracy UV Aussetzungseinheit mit einer maximalen Liniengeschwindigkeit von 30 mm/sec. Die Gesamtmaschine umfasst eine Lichtquelle, eine Linse, einen Verschluss, ein Messwerkzeug, ein Bildverarbeitungsgerät und eine Belichtungssteuerung. Alle diese Komponenten können kombiniert werden, um verschiedene Ziele wie maximale Belichtungsstabilität, Auflösung und Produktivität zu erreichen. Der Wafer Stepper verfügt auch über erweiterte Prozesskontrolle und Software-Funktionen. Es enthält ein integriertes Prozessmanagementmodell, das Belichtungsparameter wie Belichtungszeit, Laserleistung und Netzsteuerung steuern kann. Die Netzsteuerungsfunktion bietet eine verbesserte Prozesssteuerung durch die Erkennung und Vorhersage kleiner Verarbeitungsfehler über eine große Fläche. Dies kann helfen, Fehler aus dem lithographischen Prozess zu reduzieren oder sogar zu beseitigen. Neben dem Wafer Stepper bietet ALS auch integrierte Prozessalgorithmen für Ausrichtung, Belichtung und Entwicklung. Dies gewährleistet eine maximale Wiederholbarkeit für kritische lithographische Prozesse. Es kann auch in Inspektions- und Speichersysteme für die Datenverwaltung und -speicherung integriert werden. Kurz gesagt, GCA ALS ist ein hochentwickelter Wafer-Stepper, der kostengünstig ist und hohe Genauigkeit und lithografische Prozesse mit hohem Durchsatz ermöglicht. Es ist eine leistungsstarke Ausrüstung, die große Flexibilität und Präzision für Nanostrukturherstellung bietet.
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