Gebraucht GCA DSW 8000 #9312611 zu verkaufen

Hersteller
GCA
Modell
DSW 8000
ID: 9312611
Stepper NAF 0.35 I-line lens: 16-35 mm.
GCA DSW 8000 ist ein hochentwickelter Wafer-Stepper, der in der Halbleiterindustrie eingesetzt wird. Es ist eine automatisierte Ausrüstung, die Musterbilder auf Siliziumwafern für den Einsatz in integrierten Schaltkreisen belichtet. Dieses Gerät verwendet eine fortschrittliche binäre Optik-Technologie, um beispiellose Geschwindigkeit und Genauigkeit bei der Belichtung der gemusterten Bilder zu erreichen. Es ist mit einer 8-0 Zoll Schrittweite ausgestattet, die es ermöglicht, Bilder auf Wafer so klein wie acht Mikrometer genau zu projizieren. Darüber hinaus verfügt das System über eine Auflösung von 0,25 Mikron, was ihm außergewöhnliche Detailgenauigkeit und Genauigkeit verleiht. DSW 8000 ist in der Lage, sowohl ausgewählte Flächenbildgebung als auch Luftbildprojektion zu handhaben und bietet Benutzern die Möglichkeit, Bildgröße und Form nach Bedarf anzupassen. Zusätzlich enthält die Vorrichtung eine automatisierte Ausrichteinheit zur genauen Positionierung jedes einzelnen Bildes auf dem Wafer. Eine integrierte antireflektierende Beschichtungsmaschine hilft, eine optimale Belichtungsqualität zu erzielen, was zu einem schärferen, helleren Bild führt. Das Tool wird auch mit Echtzeit-Prozessüberwachung geliefert, mit der Benutzer problemlos alle Probleme überwachen und beheben können, die während der Exposition auftreten können. Im Hinblick auf die Sicherheit ist GCA DSW 8000 mit einer Vielzahl von Schutzschichten und Technologien ausgestattet, um Strahlenbelastungen für Benutzer zu verhindern. Dazu gehört ein einzigartiges Verschlusselement, das den Belichtungsbereich abdeckt und sicherstellt, dass keine Strahlung in die Kammer gelangt. Das Gerät ist auch entworfen, um die Erzeugung von statischer Elektrizität zu reduzieren, um das Einbringen von Fremdmaterial in die Abbildungskammer zu verhindern. Insgesamt ist DSW 8000 ein vielseitiger, hochentwickelter Wafer-Stepper, der Anwendern außergewöhnliche Geschwindigkeit und Genauigkeit bei der Abbildung von Silizium-Wafern bietet. Es verfügt über eine Vielzahl von Sicherheitsfunktionen und Technologien, um einen maximalen Benutzer- und Bildschutz zu gewährleisten, während seine automatisierten Ausrichtungs- und Antireflexbeschichtungssysteme dazu beitragen, die Klarheit und Helligkeit der Bilder zu verbessern. Die 8-0 Zoll-Schrittweite des Geräts bietet auch beispiellose Detail- und Auflösungsstufen, was es zu einer idealen Wahl für Halbleiterherstellungsoperationen macht.
Es liegen noch keine Bewertungen vor