Gebraucht GCA XLS #111828 zu verkaufen

GCA XLS
Hersteller
GCA
Modell
XLS
ID: 111828
stepper, I-line with a wide field 2955i lens 4x reduction NA: .55 lens field size: 29mm.
GCA XLS Wafer Stepper ist ein hochautomatisiertes Werkzeug, das in der Halbleiterindustrie für Wafer-Fertigungsprozesse eingesetzt wird. Es handelt sich um einen DUV-Stepper, der häufig für verschiedene Lithographieverfahren verwendet wird, wie z.B. Lithographie zur optischen und elektronischen Schaltungsbildung auf integrierten Schaltungen und MEMS-Komponenten. XLS Schritt-Oblate ist ein Mehrbalkenvorsprungsaussetzungswerkzeug mit einer vorspringenden Bildgröße von bis zu 6x6 Zoll. Es verfügt über ein fortschrittliches optisches Design und proprietäre Software, die es ermöglicht, einen hohen Durchsatz und Genauigkeit zu erreichen. Das Mehrstrahl-Belichtungswerkzeug bietet ein effizientes, hochwertiges optisches Abbildungsverfahren mit verbesserter Lichtsteuerung. GCA XLS Wafer Stepper kann eine Vielzahl von Maskenrahmen (bis zu 8 „x8“) und Wafern aller Größen verarbeiten, die von 3 „- 8“ reichen. Der Stepper verfügt über eine fortschrittliche berührungslose Stufenausrüstung mit einer 1,5-Grad-Genauigkeit und einer Belichtungseinheit, die Belichtungsgeschwindigkeiten von bis zu 200Kms (20000 Sekunden) ermöglicht. Es bietet auch ein einzigartiges Maskenausrichtungssystem mit einer Genauigkeit von 4 nm. Der leistungsstarke Motor ermöglicht eine Auflösung von 4 nm für die X- und Y-Achse sowie 8 nm für die Theta-Achse. Darüber hinaus verfügt XLS Wafer Stepper über eine eingebaute Luftreinigungseinheit mit einer kontinuierlichen Luftmaschine und einem zweistufigen Filterwerkzeug. Der Stepper verfügt außerdem über ein Strobe-Asset und einen verbesserten Strobe, so dass er mit speziellen Bildüberlagerungen wie polarisiertem Licht und Topograph-Funktionen arbeiten kann. Das automatisierte Niveauausrichtungsmodell ermöglicht es dem Stepper, die Neigung des Wafers genau zu messen und eine bestmögliche Belichtung zu gewährleisten. GCA XLS Wafer Stepper kann sowohl zusammengesetzte als auch binäre Maskenschichten verarbeiten. Es kann auch Wafer-Ausrichtungsgeräte mit einer dedizierten Nachschlagetabelle mit integrierter Hochgenauigkeitsregistrierungsfähigkeit und einem Pixel-Level-Editor verarbeiten, der eine hochpräzise Bearbeitung der Ausrichtungsdaten und Maskenmuster ermöglicht. Insgesamt ist XLS Wafer Stepper eine Spitzentechnologie, die eine leistungsstarke und genaue Lösung für die Herstellung von Halbleiterprodukten bietet. Seine fortschrittliche Technologie und proprietäre Software ermöglichen es ihm, einen hohen Durchsatz und Genauigkeit zu bieten, was es zu einem hochwirksamen Werkzeug für die Halbleiterproduktion macht.
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