Gebraucht KMS Vision #9223591 zu verkaufen

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Hersteller
KMS
Modell
Vision
ID: 9223591
Weinlese: 2008
Scanner Measurement system 2008 vintage.
KMS Vision ist ein fortschrittlicher Wafer-Stepper, der eine hohe Ausbeute und optische Leistung bei der Herstellung von Halbleiterbauelementen ermöglicht. Es ermöglicht eine präzise Ausrichtung des Wafers auf die Maske zur Musterätzung. Das System verwendet eine fortschrittliche Lithographielösung mit spektraler Bildgebungstechnologie für perfekte Bilder auf dem Wafer und verfügt über eine eigene proprietäre Overampling-Technik, um die Genauigkeit und Wiederholbarkeit des Lithographieschritts zu verbessern. Das Vision-System besteht aus zwei Hauptkomponenten: dem Stepper und den Nebensystemen. Der Stepper ist eine strukturelle Plattform aus Metall und Präzisionslinearführungen, auf der die optischen Elemente, die Stufen und die Fotomaske montiert sind. Der Stepper sorgt für eine genaue Positionskontrolle der Bauelemente zur Platzierung der Fotomaske auf dem Substrat, zur exakten Ausrichtung und zur Wiederholbarkeit des Musters auf dem Wafer mit hoher Genauigkeit. Die Nebensysteme umfassen eine Ausrichteinheit, einen Beleuchter und eine Kamera. Die Kamera ist einstellbar, um die Pixel der Fotomaske zu analysieren und die gewünschten Merkmale zu identifizieren, während die Ausrichteinheit Benutzer mehrere Funktionen schnell und präzise ausrichten lässt. Der Beleuchter beleuchtet die Fotomaske genau und bietet eine helle Lichtquelle zur Ausrichtung und Strukturierung. Dieser fortschrittliche Wafer-Stepper von KMS Vision verfügt über einzigartige Fähigkeiten wie spektrographische Bildgebung, hybride Wafer-Kartierung und fortschrittliche Lithographiesysteme für höhere Produktionsgeschwindigkeit und Genauigkeit. Seine hochpräzise Präzisionsausrichtung ermöglicht es ihm, Merkmale der Photomaske bis auf 1 Mikron genau zu mustern und seine optische Auflösung unter 0,2 Mikron verleiht ihm den Vorsprung gegenüber ähnlichen Produkten. Mit einer ultra-hochauflösenden Positionierbarkeit kann es die Maske in den kleinsten Bereichen des Wafers genau platzieren, was zu höheren Erträgen führt. Vision bietet auch erstaunliche Spot-Größe Variation von 4X, die mehrere Ebenen der Beleuchtung ermöglicht. Das erweiterte Steuerungssystem kann das Muster optimieren, um einen besseren Fokus für eine verbesserte optische Leistung zu erzielen. Darüber hinaus bietet seine dynamische Einzellinsenkorrektur eine breite Palette von optischen Korrekturoptionen für mehrere Belichtungsziele und seine Fähigkeit, außerhalb des Fokus liegende Muster zu erkennen, bevor die Belichtung höhere Erträge und verbesserte optische Leistung ermöglicht. Insgesamt ist der fortschrittliche High-Speed-Wafer-Stepper von KMS Vision eine ideale Wahl für hochpräzise und ertragreiche Substratherstellungsvorgänge, bei denen Durchsatz und Leistung unerlässlich sind.
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