Gebraucht NIKON FX-601F #9241806 zu verkaufen

NIKON FX-601F ist eine Wafer-Schrittmaschine, die von der NIKON Corporation entworfen und entwickelt wurde. Es wird hauptsächlich in Lithographiesystemen für die Entwicklung und Herstellung von Halbleiterprozessen verwendet. Die Maschine ist in der Lage, eine breite Palette von Schrittmustern zu sammeln und kann Wafergrößen bis 300 mm Durchmesser verarbeiten. Es eignet sich für eine Vielzahl von Photomasken-Fertigungsbereichen und -verfahren. NIKON FX 601F Wafer Stepper ist mit einer digitalen Bildverarbeitungseinrichtung ausgestattet, die ein Eingangsbild verarbeitet, das dem System zur Verfügung gestellt wird. Zur exakten Musterreplikation auf dem Wafer wendet das Gerät Lithographieverfahren wie Kompression, Ernte, Maske und Schnitt an. Das Eingangsmuster wird von einem dreikanaligen photoelektrischen Sensor detektiert, der dann in binäre Musterdaten umgewandelt wird. Die Daten werden einer Verstärkung, Glättung, Filterung unterzogen und werden schließlich auf den Wafer gedruckt. FX-601F Wafer-Stepper bietet präzises und schnelles Drucken mit seinen verbesserten Linearcodierern und Broadcast-Servoantriebsmotoren. Die Maschine ist in der Lage, verschiedene Muster einschließlich Linie/Raum Muster, Puls elektronische Muster, überlappende Muster und Kontaktloch Muster zu produzieren. Es verfügt über eine breite Bearbeitungsfläche von 211 x 211 mm mit 0,2 μ m Adressauflösung. Die Genauigkeit und Gleichmäßigkeit der gedruckten Muster hängt von der Genauigkeit und Schrittgeschwindigkeit der Waferoberfläche ab. FX 601F Wafer Stepper ist mit einer Folienschutzmaschine ausgestattet, um die maskierten Muster zu schützen. Dieses Werkzeug erkennt den Bruch der Folie durch äußere Kraft und stoppt den Druck, um Beschädigungen des Musters zu vermeiden. Die Maschine ist auch mit einem hochempfindlichen Auto-Fokus-Asset ausgestattet, um die Qualität der gedruckten Muster zu gewährleisten. Die Maschine verfügt über eine integrierte Rezeptdatenbank, die alle Programme für die Waferbearbeitung und Photomaskenherstellung speichert. NIKON FX-601F Wafer Stepper ist für einfache Bedienung und Wartung konzipiert. Es verfügt über eine anspruchsvolle Docking-Station, die vereinfachte Be- und Entladevorgänge für Wafer ermöglicht. Die ergonomisch gestaltete Benutzeroberfläche mit grafischem Bedienmenü ermöglicht es dem Anwender, Maschinenparameter für eine effiziente Bedienung einzurichten. NIKON FX 601F Wafer Stepper ist in der Lage, verschiedene Musterformen mit hoher Präzision zu verarbeiten. Es ist eine ideale Maschine für die Photomaskenherstellung und Halbleiterverarbeitung, da es eine einfache Wartung und Produktionskosteneffizienz bietet. Mit Hilfe dieser Maschine kann eine Hochleistungs-Photomaskenherstellung realisiert werden.