Gebraucht NIKON FX-601F #9412239 zu verkaufen

NIKON FX-601F Wafer Stepper ist ein fortschrittliches und hochgenaues Bildgebungswerkzeug, das für Fertigungsprozesse verwendet wird. Sein Design ist für die hochpräzise Lithographie und die Hochleistungsproduktion von Dünnschichttransistoren, optoelektronischen Dünnschichtbauelementen und ICs optimiert. NIKON FX 601F kann kleine bis großflächige Bilder mit einer Auflösung von bis zu 1,2 Mikrometern erzeugen. Das physikalische Sichtfeld der bildgebenden Optik ist 128mm quadratisch, während die Fläche des bildgebenden Feldes 200mm quadratisch ist. Die Sensoreinrichtung ist eine hochauflösende 4CCD Zeilenkamera, die von einem Systemsteuerungscomputer angesteuert wird. Die Optik ist für eine große Schärfentiefe ausgelegt und kann mit verschiedenen Substraten und mit einer Vielzahl von Resists und Materialien verwendet werden. Der Stepper ist in der Lage, mit einer Geschwindigkeit von bis zu 100 Wafern pro Stunde zu arbeiten, was ihn für die Herstellung mit hohem Durchsatz geeignet macht. Das Gerät verfügt über eine Vielzahl von Funktionen, um eine hochpräzise Bildgebung zu gewährleisten, einschließlich der automatischen Ausrichtung der Kamera, des Autofokus und der automatischen Einstellung der Ausrichtung des Wafers. Der Stepper ist mit beliebten atmosphärischen und nicht-atmosphärischen Verarbeitungstechniken kompatibel und kann konsistente Bilder auf Substraten mit komplexen Topographien erzeugen. Der Stepper ist in der Lage, Belichtungszeit, Retikelgröße und Position sowie Belichtungsintervalle zu steuern. Es verfügt über einen High-Definition-Monitor und eine benutzerfreundliche grafische Benutzeroberfläche (GUI), um die Programmierung und Bedienung der Maschine zu erleichtern. Das Werkzeug ist mit Sicherheitsmerkmalen wie einem eingebauten Sicherheitslichtvorhang und einer Verriegelung ausgelegt, um unbeabsichtigte Belichtungen zu verhindern. FX-601F ist ein leistungsfähiges Gut mit einem ausgezeichneten Preis-Leistungs-Verhältnis, was es ideal für diejenigen macht, die ihre Produktionskapazität erhöhen und gleichzeitig die höchstmöglichen Standards an Präzision und Genauigkeit beibehalten möchten. Es ist ein unschätzbares Werkzeug für fortschrittliche Lithographieanwendungen, das die schnelle Herstellung von hochwertigen Dünnschichttransistoren, optoelektronischen Dünnschichtkomponenten und ICs ermöglicht.