Gebraucht NIKON FX 701 / FX 901 #293661855 zu verkaufen

NIKON FX 701 und FX 901 Wafer Stepper sind fortschrittliche optische Lithographiesysteme, die entwickelt wurden, um Submikron- und Nanoskala-Merkmale auf Halbleiterscheiben genau zu strukturieren. Die Systeme bieten eine hervorragende optische Leistung und sind mit fortschrittlicher Prozessüberwachungstechnologie ausgestattet. Die Systeme NIKON FX 701 und FX 901 arbeiten in zwei getrennten Prüf- und Fertigungsschritten (oder „Prozess“). Zunächst verwendet das optische Projektionssystem eine sehr detaillierte Schrittlinse, um das Marktmuster auf den Wafer abzubilden. Die Linsenbaugruppe weist mehrere Besonderheiten auf, darunter eine extrem hohe Temperaturstabilität, die in Lithographieanwendungen äußerst kritisch ist. Der zweite Schritt ist ein Herstellungsverfahren, bei dem mittels optischer Laserbeleuchtung die Submikronmerkmale des Wafers präzise strukturiert werden, indem nur ausgewiesene Bereiche freigelegt werden. Die Systeme FX 701 und FX 901 bieten eine außergewöhnlich hohe Präzision und hervorragende Bildgebungsqualität, dank einer 6-Zoll-Scan-Reichweite und längerem Etappenweg. Diese überlegene Bildauflösung ermöglicht NIKON Wafer Stepper hochgenaue Muster für fortgeschrittene Nanoskala Geräteherstellung zu erstellen. Der NIKON FX 701 und der FX 901 Stepper bieten nicht nur detaillierte Submikron-Muster, sondern auch eine On-the-Fly-Überwachung, die eine Vor-Ort-Prozessanpassung ermöglicht. Diese fortschrittliche Prozessüberwachung macht NIKON Wafer Stepper zu einem zuverlässigen und effizienten Werkzeug für die heutigen anspruchsvollen Halbleiterherstellungsanwendungen. Die Wafer-Stepper FX 701 und FX 901 verfügen zudem über eine patentierte Registrierungsfunktion, die den Waferdurchsatz und die Genauigkeit erhöht. Die Registrierungsfunktion automatisiert mehrere Aufgaben, einschließlich Schwenken, Mehrfachausrichtung und Musterkorrektur, durch präzises Scannen des Wafers. Dies verbessert die Prozesskonsistenz und -genauigkeit weiter. Insgesamt sind NIKON FX 701 und FX 901 Wafer Stepper fortschrittliche Lithographiesysteme für die präzise nanoskalige Herstellung von Halbleiterscheiben. Die Systeme FX 701 und FX 901 verwenden extrem präzise Schrittlinsen, spezialisierte Laserbeleuchtungstechniken und fortschrittliche Prozessüberwachungssysteme, um sehr detaillierte Submikronmuster zu erstellen. Darüber hinaus verfügen die Systeme über eine patentierte Registrierungsfunktion, die den Waferdurchsatz und die Genauigkeit erhöht. Die Kombination dieser Funktionen macht NIKON FX 701 und FX 901 Wafer Stepper zu einem effektiven und zuverlässigen Werkzeug für moderne Nanotechnologie-Anwendungen.