Gebraucht NIKON G4D #9144947 zu verkaufen

NIKON G4D ist ein Wafer-Stepper, eine Art Lithographiewerkzeug, das in der Halbleiterindustrie eingesetzt wird. Sie ist in der Lage, Halbleiterbauelemente mit hoher Genauigkeit und Präzision herzustellen. Es verfügt über eine fortschrittliche optische Ausrüstung sowie präzise x-y-Ausrichtungsfunktionen und eine hochmoderne Computersteuerung. Mit seinen fortschrittlichen optischen Komponenten und der hochgenauen Ausrichtung ist G4D in der Lage, extrem hochauflösende Strukturen und Funktionen mit einem Abstand von bis zu 0,2 Mikron in x- und y-Achsen zu erzeugen. Das optische System von NIKON G4D enthält eine High Numerical Aperture Scanning Numerical Aperture (SNAP) -Einheit und ein 12mm Field Emitter Array (FEA) -Array. Die SNAP-Maschine besteht aus einer beweglichen Spiegelbaugruppe, einer präzisen Fokussiermembran und einem hochempfindlichen Bildarray. Seine erweiterte Optik ist in der Lage, klare und detaillierte Bilder zu produzieren, die eine breite und anpassbare Reihe von Funktionen abdecken, so dass es effektiv gemusterte Masken auf Halbleiterscheiben schreiben kann. Die hochmoderne Computersteuerung von G4D verwendet einen synchronen Schritt-und-Wiederholungs-Controller, um sicherzustellen, dass jede Maske vor der Belichtung richtig positioniert ist. Dieses Tool ist auch in der Lage, komplexe, mehrstufige Scans zu manipulieren, um eine Reihe von Ergebnissen zu erzielen, was es zu einem sehr vielseitigen Werkzeug macht. Darüber hinaus verfügt das Gerät über einen internen Quality Control Asset (QCS) zur Überwachung und Anpassung des Belichtungsprozesses. NIKON G4D verfügt auch über eine breite Palette von Funktionen, die Flexibilität in der Lithographie ermöglichen. Es hat ein Hochleistungskonturenprogrammiermodell für das leichte Mustern, sowie eine Reihe von Aussetzungsquellen, die Laser- und Elektronbalken einschließen. Es bietet auch eingebaute Kalibrierung, sowie eine Reihe von Temperatur- und Filmsteuerungseinstellungen. Insgesamt ist G4D ein äußerst zuverlässiges und präzises Lithographiewerkzeug zur Herstellung hochauflösender Halbleiterbauelemente. Dank der fortschrittlichen optischen Ausrüstung, der hochgenauen Ausrichtungsfunktionen und der hochmodernen Computersteuerung ist es für modernste Produktionsanforderungen gut geeignet.