Gebraucht NIKON i10C #9300131 zu verkaufen

NIKON i10C ist ein Hochleistungs-Wafer-Stepper für Mikrolithographieanwendungen. Der Stepper ist in der Lage, hochgenaue und präzise Muster mit einer Stufen- und Wiederholungsausrichtungsgenauigkeit von 0,07 µ (Mikron) oder weniger zu erzeugen. NIKON I 10 C bietet eine breitere Palette von bildgebenden Werkzeugen und Belichtungstechnologien, wie Pulslaser, fortschrittliche Optik und hochauflösende Masken, wodurch Benutzer mehr Flexibilität und optimierte Bildqualität erhalten. I10C verwertet eine schnelllaufende, hohe Genauigkeit NanoStepTM, der Ausrüstung geht, die ein Positionierungssystem mit einer Genauigkeit von 0,03 µ und einer Stufengeschwindigkeit von bis zu 1,30 m/s2 verwertet, um die Oblate schnell zu bewegen. Dadurch wird sichergestellt, dass der Wafer vor der Belichtung schnell und genau positioniert wird, was eine effiziente, wiederholbare Strukturierung ermöglicht. I 10 C ist mit NIKON proprietären Super HR (High-Resolution) Objektiven ausgestattet, die einen verbesserten Bildkontrast, ein weites Sichtfeld und eine hochauflösende Bildgebung bieten, um eine überlegene Strukturierung zu ermöglichen. Das 40x Objektiv in NIKON i10C hat eine einstellbare numerische Apertur bis zu 1,6, und das 42x Objektiv hat eine einstellbare numerische Apertur bis zu 2,2, so dass es für Anwendungen geeignet ist, die eine hochauflösende Bildgebung erfordern. NIKON I 10 C bietet verschiedene Belichtungstechnologien, darunter fortschrittliche gepulste Laserbelichtung und EX-Belichtung. EX Exposure verwendet einen Zielgenerator, um die Belichtungszeit zu reduzieren und den Durchsatz bei gleichzeitiger Verbesserung der Bildqualität erheblich zu erhöhen. I10C verfügt auch über erweiterte Optik, wie Dämpfer, Neutraldichtefilter, Polarisationsmoduskonverter und bildgebende Systeme, die die Musterqualität weiter verbessern. I 10 C verfügt über eine vollautomatische Wafer-Handling-Einheit, ausgestattet mit einem Waferboot und einer automatisierten Wafer-Austauschfunktion. Die Maschine kann verschiedene Arten von Wafern unterschiedlicher Größe handhaben, von kleinen Substraten von weniger als 200mm bis zu großen Substraten von mehr als 300mm. Es ist auch in der Lage, eine breite Palette von Materialien zu verarbeiten, wie Silizium, Glas und Kunststoffe. NIKON i10C ist mit dem umfassenden Steuerungstool NIKON SEECmaticTM ausgestattet, das über eine intuitive grafische Benutzeroberfläche und eine Datenbank mit Prozessrezept-Einstellungen für einfache und effiziente Bedienung verfügt. Das Asset bietet auch Online-Prozesssteuerung und Fernwartungsfunktionen, so dass Benutzer die Verfügbarkeit und Produktivität maximieren können. Schließlich wird das Modell strengen Inspektionen und Tests nach internationalen Sicherheitsstandards zur Qualitätssicherung unterzogen.