Gebraucht NIKON i12 #9364674 zu verkaufen

NIKON i12
Hersteller
NIKON
Modell
i12
ID: 9364674
Wafergröße: 8"
i-Line steppers, 8".
NIKON i12 ist ein hochpräziser, hochautomatisierter Wafer-Stepper, der speziell für fortschrittliche Lithographieanwendungen entwickelt wurde, die einen hohen Durchsatz und eine hohe Genauigkeit erfordern. Es ist mit fortschrittlichen Technologien wie einer adaptiven Bühne, einer mehrstufigen Fokustiefe und einem G-Dichtungs-Scanner ausgestattet. Der Wafer-Stepper ist für den Einsatz in einer Vielzahl von Lithographieverfahren konzipiert, darunter extreme ultraviolette (EUV), Immersions-Lithographie und laserinduzierte Wärmebildgebung (LITI). Der Stepper hat eine maximale Scanfeldgröße von bis zu 12 „x6“, eine mehrstufige Tiefenschärfe und eine hochauflösende bildgebende Ausrüstung, um eine genaue Belichtung zu gewährleisten undPattern Placement Reticule (PPR). Der Wafer-Stepper ist mit einer adaptiven Stufe ausgestattet, die den Wafer vor der Belichtung genau ausrichtet und positioniert. Es ist außerdem mit einem optischen G-Dichtungsscanner und einem Belichtungsüberwachungssystem zur präzisen Platzierung und Inspektion von Mustern ausgestattet. Es ist auch in der Lage, seine Bewegungs- und Fokusachsen automatisch auf den Wafer und seine Musterposition auszurichten. NIKON I 12 Wafer Stepper bietet auch erweiterte Steuerungsmöglichkeiten für komplizierte Muster Platzierung. Eine zusätzliche Schutz- und Steuereinheit verhindert, dass Staubpartikel oder andere außerirdische Partikel in die bildgebende Maschine gelangen. Dies hilft, die Integrität des bildgebenden Werkzeugs für verbesserte Genauigkeit und Auflösung zu erhalten. I12 Wafer Stepper hat auch ein paar unterhaltsame Funktionen wie Objektiverkennungsfunktionen, eine intuitive grafische Benutzeroberfläche (GUI) und I 12 Viewer Software für eine schnelle und einfache Vorschau von Belichtungsdaten. Mit diesen Funktionen können Benutzer komplexe Musterformen und -dichten vor der Belichtung visualisieren. NIKON i12 bietet hohen Durchsatz und Genauigkeit für serienreiche und kritische Anwendungen. Es ist auch mit Trägheits- und Umweltkompensations- und optischen Kompensationsmöglichkeiten ausgestattet, um Umwelt- oder Positionsschwankungen zu korrigieren. Die modulare Konfiguration bietet Kompatibilität mit branchenüblichen Masken und Objektivpaketen und bietet Anwendern Flexibilität bei der Arbeit mit verschiedenen Lithographieanwendungen. Neben all diesen Funktionen verfügt NIKON I 12 auch über ausgeklügelte Automatisierungsfunktionen wie automatische Indexierung und Stapelverarbeitung. Es wird von NIKON fortschrittlichen Lithographie-Tools wie iNspect, iLitho und iExposure unterstützt, die die anspruchsvollen Anforderungen lithografischer Anwendungen erfüllen und übertreffen. Mit seinen fortschrittlichen Funktionen und Technologien ist i12 das perfekte Werkzeug für fortschrittliche Lithographietechniken.
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