Gebraucht NIKON NES1 H04 #9225317 zu verkaufen
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ID: 9225317
Wafergröße: 6"
Weinlese: 2010
Mini steppers, 6"
Resolution: 2 μ L/S, K=0.8
Wave frequency: H line (405 nm)
N.A: 0.16
Exposure range: 15.00 mm x 15.00 mm ~ 11.23 mm x 18 mm
Alignment accuracy: |M| 3σ ≦ 0.3 μm
Reticle size: 5” x 5”, t=0.09" Quartz glass
Throughput: 6” Wafer (61) shots, 60w/h
2010 vintage.
NIKON NES1 H04 ist ein hochpräziser Wafer-Stepper für die anspruchsvollen Photolithographie-Prozesse in der Halbleiterherstellung. Es bietet fein detaillierte Bildgebung mit einer Auflösung von 325nm/Schritt. Das intuitive Design lässt sich leicht an verschiedene Laminierungs- und Belichtungsanwendungen anpassen. Der Wafer-Stepper verfügt über ein präzises und zuverlässiges Abtastsystem, das die präzise Ausrichtung von Maske und Wafer ermöglicht und präzise und wiederholbare horizontale und vertikale Koordinaten gewährleistet. Es ist mit einer großformatigen Orientierungsstufe ausgestattet, die Fächerstrahl-Nähte unterstützt, um eine überlegene Genauigkeit bei der Musterausrichtung und einen Vollscanmodus für größere Wafer zu bieten. NIKON NES1-H04 bietet eine Reihe von Funktionen, die Photolithographie-Anwendungen einfacher und effizienter machen. Es beinhaltet NIKON proprietäre Voice Image Process Technology (VIPT), die es Anwendern ermöglicht, Belichtungsparameter schnell nach Mustern und Materialien abzustimmen. Es umfasst auch weltweit führende Multi-EXEL-Automatisierung, um eine hohe DUT-Akzeptanz zu unterstützen. Der Wafer-Stepper verfügt zudem über eine intuitive Touchscreen-Benutzeroberfläche, die direkten Zugriff auf alle Funktionen und Einstellungen der Maschine bietet. Dazu gehören eine Kameraansicht zur Visualisierung des Arbeitsfortschritts sowie voreingestellte Belichtungseinstellungen. Alle diese Designmerkmale kombinieren, um eine ausgezeichnete Leistung für eine Reihe von Photolithographie-Anwendungen zu bieten. Das zuverlässige Scansystem sorgt für präzise Musterausrichtung, während die intuitive GUI Anpassungen schnell und einfach macht. Für Anwender, die höchste Detailgenauigkeit und Genauigkeit in ihren Photolithographie-Prozessen benötigen, ist NES1 H04 eine ideale Lösung.
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