Gebraucht NIKON NES1 H04 #9356064 zu verkaufen

NIKON NES1 H04 ist ein Wafer-Stepper, ein präzises Werkzeug zur Erstellung von Photomasken für den Druck integrierter Schaltungen. Das Gerät bietet Anwendern ein extrem hochauflösendes Belichtungssystem bestehend aus einem hochgenauen DCM-Stepper (Digital Controlled Mode), der eine präzise und wiederholbare Belichtung von Photomasken gewährleistet. NIKON NES1-H04 nutzt eine leistungsstarke Mikrofokus-Optik mit 8,4 Mikrometern und bietet eine volle Auflösung von 0,5 Mikrometern mit einer Genauigkeit von +/-1,5 um und einer Wiederholbarkeit von +/-3 um. Es verfügt zudem über einen innovativen Unterfeld-Stepper, der eine Präzision von 0,2 Mikron bietet. Die 0,5-Sekunden-Stufe ermöglicht einen schnellen und unterbrechungsfreien Betrieb in den meisten Hochvolumendruckumgebungen und die integrierte REC-Technologie (Repeatability Error Compensation) verbessert die Aufgabe der Lithographie weiter. Der Wafer-Stepper verfügt zudem über eine hochempfindliche CCD-Kamera (Charge-Coupled Device) zur Überwachung der Probenintegrität und Positionsgenauigkeit. Diese CCD-Kamera ist hochempfindlich und verwendet eine CCD mit einer Auflösung von 12,3 Megapixel bei einer Bildrate von 10 Bildern pro Sekunde, die eine detaillierte Analyse von Proben während der Photomaskenherstellung ermöglicht. Darüber hinaus verfügt die Einheit über ein spezielles proprietäres Kammerdesign, das einen gleichmäßigen Dichtdruck gewährleistet und eine Anpassung der Gasströme an den jeweiligen Umstand ermöglicht. Auf diese Weise können Anwender die Maschine einfach für eine Vielzahl von Anwendungen, wie z. B. Teilbelichtung, anpassen. Begleitet werden diese Funktionen durch eine Reihe von automatisierten Operationen zur präzisen Ausrichtung und Fokussierung, einschließlich eines Objektivs Autofokus, Auto-Nullen und Auto-Reticle-Zentrierung. Diese intelligenten Funktionen helfen Anwendern, Wafer für eine optimale Belichtung mit minimalem Aufwand genau zu positionieren. Insgesamt bietet NES1 H04 fortschrittliche Funktionen, um überlegene Lithographieergebnisse zu erzielen, die Zeit und Kosten für die Herstellung von Photomasken erheblich zu reduzieren und Anwendern höchste Leistung und Zuverlässigkeit zu bieten.