Gebraucht NIKON NES1 H4 #9239625 zu verkaufen

NIKON NES1 H4 ist ein Hochleistungs-Wafer-Stepper zur Herstellung von Halbleiterbauelementen. Es ist eine zweistufige, portalartige, optische Vollfeld-Lithographie-Ausrüstung, die einen Näherungsmasken-Aligner, ein Oberflächenausrichtungssystem und ein Immersionsprojektionsobjektiv umfasst. Entwickelt für den effizienten Einsatz von Belichtungszeit, unterstützt es hohe Vergrößerung, hohe Auflösung und hohen Durchsatz, so dass es für eine breite Palette von Herstellungsprozessen geeignet ist. NES1 H4 verwendet eine Kombination von Funktionen, um eine optimale Anwendung der Halbleitermaterialien auf Waferebene zu gewährleisten, einschließlich eines hochpräzisen dreiachsigen Portals - das das Gerät mit schnellen Bewegungen und hoher Genauigkeit Ausrichtgenauigkeit bietet. Die obere Oberflächenausrichtungsmaschine sorgt für eine präzise Platzierung für jede Materialschicht über dem Substrat und sorgt für eine gleichmäßige Schichtverteilung. Darüber hinaus sorgt die hochauflösende Optik des Werkzeugs dafür, dass extrem kleine Funktionen präzise und präzise mit einer höheren Geschwindigkeit erzeugt werden können, als dies bei anderen Wafer-Schrittsystemen möglich ist. Ein weiteres Merkmal von NIKON NES1 H4 ist seine Vollfeld-Immersionsprojektionslinse, die einen glatten optischen Weg von der Maske zur Waferoberfläche ermöglicht. Da das Asset sowohl für die Multi-Exposure als auch für die Multi-Layer-Lithographie konzipiert ist, ermöglicht das Vollfeld-Immersionsprojektionsobjektiv Benutzern die genaue Anwendung von Materialien mit hoher Auflösung mit einer schnelleren Rate als typischerweise erreichbar. NES1 H4 ist kompatibel mit einer Vielzahl von hochauflösenden Trägeroberflächen wie Epoxid, Quarz, Low-K-Dielektrika und schützenden Photoresists. Es kann eine Feldgröße von bis zu 28 mm x 28 mm mit einer zugehörigen Fokustiefe von 6 bis 30 μ m bereitstellen, und seine Laserinterferometrie kann bis zu 0,1 Mikrometer Genauigkeit liefern. Zusätzlich zur Gewährleistung der Genauigkeit für jede Schicht sind die Schrittköpfe des Modells für schnellen Betrieb und vibrationsfreies Design ausgelegt. Insgesamt ist NIKON NES1 H4 eine vielseitige und leistungsstarke Multi-Layer-Lithographieausrüstung, die hohe Genauigkeit, hohen Durchsatz und präzise Platzierung von Materialien über eine breite Palette von Halbleiteranwendungen bereitstellen kann. Seine fortschrittlichen Eigenschaften und sein breites Spektrum an kompatiblen Materialien machen es für eine Vielzahl von Anwendungen geeignet.