Gebraucht NIKON NSR 1505 G4D #293819196 zu verkaufen

NIKON NSR 1505 G4D ist ein Waferstepper, der für die Verarbeitung von Photolithographie-Wafern in Halbleiterindustrie entwickelt wurde. NIKON NSR 1505 G 4 D ist eine Stufen- und Scaneinrichtung der High-End-Produktionsklasse, die eine präzise Mikrostrukturierung von Halbleiterschaltungen mit einer einstellbaren katadioptrischen Projektionslinse und einem größeren Ausrichtungssichtfeld ermöglicht. Es verwendet die neueste fortschrittliche Bildgebungstechnologie, um direkte Ausrichtung und Mustertransfer mit hoher Genauigkeit und sehr feiner Auflösung zu ermöglichen. Das System verfügt über eine ausgezeichnete Platzierungsgenauigkeit, verzerrungsfreie Bildtreue und Optionen, die einen höchsten Durchsatz und eine fortschrittliche Umweltkontrolle ermöglichen. Die Bildgröße beträgt 5 Zoll und kann Substrate mit einer Größe von bis zu 8 Zoll aufnehmen. Belichtungswellenlänge ist 248nm, mit Laser-Interferometer-Unterstützung. NSR 1505 G4D ist für hohe Genauigkeit und geringe Musterverzerrung ausgelegt. Sein hoher Durchsatz und seine feine Auflösung werden durch seine Step and Scan-Technologie ermöglicht, mit aktiver Ausrichtung und fortschrittlicher optischer Optimierung, um das vom Benutzer erzeugte Maskenmuster genau zu replizieren. Zusätzlich kann die Scangeschwindigkeit angepasst werden, um die Bearbeitungszeit zu optimieren. Das Gerät verwendet eine erweiterte Umgebungssteuerung mit einer Wafer-Edge-Following-Maschine für Fokus und Ausrichtung, aktive Sensoren für Wafer-Ebenheit Korrektur und Auto-Stage-Kalibrierung. Es kann manuell, halbautomatisch oder vollautomatisch betrieben werden, mit automatischer Einfallsbeleuchtung und Verschlusskontrolle. Außerdem wird Zugriff auf die für das Tool benötigten Rechenressourcen, Software, Support und RAM bereitgestellt. Es kann auch Echtzeit-Überwachung und Feedback bieten, um eine schnellere, genaue und effiziente Wafer-Verarbeitung zu gewährleisten. Insgesamt ist NSR 1505 G 4 D das perfekte Werkzeug für die Herstellung fortschrittlicher Photolithographie- und Mikrostrukturierungsprozesse in der Halbleiterindustrie. Es ist mit modernsten Bildgebungs- und Umwelttechnologien gebaut und für den Produktionsdurchsatz und die Genauigkeit optimiert. Dies macht es zu einer idealen Wahl für viele Halbleiterindustrien.