Gebraucht NIKON NSR 1505 G6D #9269101 zu verkaufen

NIKON NSR 1505 G6D ist ein hochmoderner Wafer-Stepper mit präzisen Photolithographielösungen für die anspruchsvolle Halbleiterindustrie. Dieser sehr begehrte Stepper ermöglicht es Benutzern, ihre Wafer-Entwicklungsfähigkeiten zu verbessern und fortschrittliche Halbleiterbauelementmuster mit hoher Genauigkeit und Wiederholbarkeit zu erzeugen. Es kombiniert den Einsatz von fortschrittlicher Optik, Motorisierung, Präzisionsrobotik, Belichtungssteuerungssystemen und Bildanalysesystemen, um hochwertige Wafer zu erstellen. NSR 1505 G6D wurde entwickelt, um überlegene Produktionsgeschwindigkeit und hohe Genauigkeit und Kosteneinsparungen für jede große Waferproduktion zu bringen. Das System hat eine maximale Belichtungsfläche von 200mm x 200mm, mit einer Auflösungsfähigkeit von 30µm. Es wird mit einem programmierbaren Belichtungsprofil geliefert, um eine präzise Musterreplikation und Genauigkeit zu gewährleisten. Es liefert scharf fokussierte Bilder mit einer maximalen Belichtungsdosis von 5000mJ/cm2. Es bietet auch höhere Expositionsquellen, Ertrag und Durchsatz, so dass kurze Zykluszeiten und eine zuverlässige Produktion möglich sind. Darüber hinaus unterstützt NIKON NSR 1505 G6D erweiterte Bildanalyse und Mustererkennung, die eine automatisierte Musteranpassung und Korrektur von Fehlern im Belichtungsprozess ermöglicht. Es verfügt über ein automatisiertes Belichtungssteuerungssystem für die Spleiß- und Waferentwicklung sowie eine Reihe von zusätzlichen Funktionen, wie Overlay-Auswertung und Anwendereinstellung einer optimalen Belichtungszeit. Es enthält auch eine hochmoderne Rezeptschnittstelle, um eine einfache Programmierung von Belichtungsparametern zu ermöglichen. Das System ist für minimale Wartung und Ausfallzeiten konzipiert und erfordert nur regelmäßige vorbeugende Wartung und professionelle Kalibrierung, um eine optimale Leistung zu gewährleisten. NSR 1505 G6D ist in der Lage, eine breite Palette von Wafergrößen von 200mm bis 300mm zu handhaben, so dass es für den Einsatz in jedem Großprojekt der Photolithographie geeignet ist. Mit seinen fortschrittlichen Funktionen kann es auf spezifische Anwendungen zugeschnitten werden und bietet den höchsten Standard an Kosteneffizienz und Durchsatz.