Gebraucht NIKON NSR 1505 G7E #293592861 zu verkaufen

NIKON NSR 1505 G7E ist ein hochleistungsfähiger Dual-Beam-Vollfeldstepper, der vollständig in 4- und 8-Zoll-Wafer-Scan-Felder integriert ist. Diese NIKON-Ausrüstung ist eine besonders kostengünstige Wafer-Stepper-Lösung. NIKON NSR-1505G7E führt eine Reihe von technologischen Fortschritten in die Welt der fortschrittlichen Lithographietechnologie ein. Es enthält fortschrittliche Nanolithographie-Komponenten und verwendet eine hohe numerische Apertur (NA) -Optik für höhere Belichtungsgenauigkeit und breitere Prozessfenster. Es bietet hohe Auflösung und Belichtungsgenauigkeit auch bei hoher Vergrößerung und einem umfangreichen Prozessfenster. Die Hochleistungs-Belichtungsoptik von NSR-1505 G7E umfasst ein modernes optisches System, ein elastomeres optisches Element und eine Hochleistungs-NA-Projektionslinse. Die fortschrittliche optische Einheit bietet hochpräzise Bildgebung, die über ein breites Belichtungsfeld stabil ist. Die fortschrittliche optische Maschine wurde entwickelt, um eine hohe Ausrichtungsgenauigkeit und hohe Lithographie-Belichtungsgenauigkeit für große Belichtungsfelder zu erreichen. NSR 1505 G7E verfügt über ein Single Wafer Alignment Tool (SWAS), das eine schnelle und präzise Ausrichtung von Lithographie-Retikeln ermöglicht. SWAS verwendet fortschrittliche In-Line-Sensoren und -Optiken, um die Ausrichtung von Belichtungsfeldern ohne mechanische Bewegung schnell und genau zu messen. Das Asset ermöglicht die Integration hochauflösender Luftbilder mit Belichtungstopologien und Belichtungslayouts. NSR-1505G7E verfügt auch über eine Waferstufe mit großem Durchmesser, so dass Wafer mit einem Durchmesser von bis zu 8 Zoll verarbeitet werden können. Das Modell verfügt über einen fortschrittlichen Wafer-Handhabungsmechanismus, der eine genaue und präzise Stufenbewegung ermöglicht und einen niedrigeren Overhead für die Produktionsautomatisierung bietet. Einzigartig bietet NIKON NSR-1505 G7E eine hohe Produktivitätsweise an, die hohen Durchfluss mit seiner Hochleistungssteindruckverfahrenproduktion ermöglicht. Es bietet auch einen niedrigen Stromverbrauchsmodus, der es ermöglicht, bei niedrigerer Leistung zu arbeiten und gleichzeitig einen hohen Durchsatz zu erzeugen. Darüber hinaus bietet NIKON NSR 1505 G7E fortschrittliche integrierte Sicherheitsfunktionen und automatisiertes Wafer-Handling, das eine effiziente Lithographie-Produktion ermöglicht. Mit einem ortstoleranten Schreibmuster kann NIKON NSR-1505G7E fortgeschrittene Musterformen mit einem hohen PWD-Qualitätsniveau erzeugen. Es verfügt auch über eine hochpräzise Pulse Shaping Architecture (PSA) für höhere Genauigkeit Belichtungen. Schließlich verfügt NSR-1505 G7E über zahlreiche kompatible Zubehörteile, darunter einen erweiterten Lithographie-Prozessablaufeditor und ein spezialisiertes Software Development Kit (SDK). Abschließend ist NSR 1505 G7E eine fortschrittliche und hochqualitative Wafer-Stepper-Lösung. Es zeigt fortgeschrittene Nanosteindruckverfahrenbestandteile, hochauflösende Optik, Hopräzisionsbildaufbereitung, eine Großdiameteroblatenbühne, eine SWAS-Anordnungsausrüstung, eine Hochleistungssteindruckverfahrenproduktionsweise, niedriger Stromverbrauch, hat Sicherheitseigenschaften und einen spezialisierten SDK vorgebracht. Die Kombination dieser Elemente macht NSR-1505G7E zu einer hervorragenden und kostengünstigen Wafer-Stepper-Lösung.