Gebraucht NIKON NSR 1505 G7E #293637484 zu verkaufen

NIKON NSR 1505 G7E ist ein fortschrittlicher Wafer-Stepper, der Photomasken und Wafer für die Halbleiterindustrie herstellen kann. Es ist in der Lage, mit verschiedenen Arten von Photomasken und Wafern zu arbeiten, wie 4-Zoll, 6-Zoll und 8-Zoll-Durchmesser. Die fortschrittliche Optik des G7E macht es in der Lage, qualitativ hochwertige, hochauflösende Photomasken und Wafer zu produzieren. NIKON NSR-1505G7E verwendet ein hochentwickeltes Mehrpunkt-Ausrichtungssystem, das eine schnelle, genaue und wiederholbare Ausrichtung der Photomasken- und Waferscheiben gewährleistet. Der Stepper ist sehr zuverlässig und einfach zu bedienen, so dass die Herstellung von sehr hohen Ausbeute und Qualität Photomasken und Wafer in sehr kurzer Zeit. Das G7E verfügt über einen zweistufigen Mechanismus, mit beiden Stufen voll motorisiert für automatisierte Wafer- und Photomasken-Übertragung. Zum G7E gehört auch eine hochauflösende, tragbare Messstation zur Messung wafer- und fotomaskenkritischer Abmessungen. NSR-1505 G7E umfasst ein Ausrichtmikroskop, das eine extrem präzise Waferausrichtung ermöglicht. Das abnehmbare Mikroskopobjektiv und die Retikles sind schnell und einfach zu montieren und zu demontieren, was einen einfachen Transfer zwischen verschiedenen Ausrichtungsobjektiven und Retikeln ermöglicht. Dies gewährleistet die Kompatibilität mit einer Vielzahl von Ausrichtungstechniken. Weitere Merkmale der G7E sind ein Maskenausrichtungsmonitor, der es dem Bediener ermöglicht, die Haftung und Korrektur von Photomasken an Wafern auszuwerten, und ein Wafer-Temperatursensor-Slave-System. Das G7E bietet automatische Wafer-Auswahlmöglichkeiten und kann so programmiert werden, dass die optimale Wafergröße für die Photomaske automatisch erkannt wird. NIKON NSR-1505 G7E ist ein sehr zuverlässiger Wafer-Stepper und in der Lage, Photomasken und Wafer von höchster Qualität zu produzieren. Es ist mit Funktionen wie voll motorisierten zweistufigen Mechanismen, tragbarer Messstation, hochauflösendem Ausrichtungsmikroskop und Maskenausrichtungsmonitor ausgestattet, die alle eine zuverlässige und effiziente Produktion von Photomasken und Wafern mit hoher Ausbeute und Qualität gewährleisten.