Gebraucht NIKON NSR 1505 i10D #146913 zu verkaufen
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ID: 146913
Wafergröße: 6"
Stepper, 6"
Performance Specification:
Expose Source: i-Line (365nm)
Reduction Ratio: 5:1
Lens: 5IB5
Expose Field: 20mm Diameter -15mm x 15mm
Exposure power: >800mW/cm2
Alignment System: LLTC, FIA, SLTC
Hardware Configuration:
Wafer loader: 6" wafer stage
Wafer Loader: Type II
Cassette Elevators: 2
Wafer stage interferometer system
Reticle loader: Single Six
Reticle alignment system: SRA/ISS
Auto-Reticle blind system
Auto-focus system
Currently in a cleanroom.
NIKON NSR 1505 i10D ist ein hochpräziser, fortschrittlicher Wafer-Stepper für die Herstellung von Halbleiterchips. Es ist mit modernsten optomechatronischen Technologien ausgestattet und liefert Genauigkeit und Durchsatz für anspruchsvolle, volumenreiche Lithographie-Anforderungen. NSR 1505 i10D verfügt über 10nm Lasermuster, 1 nm Overlay-Genauigkeit und eine 250 mm Feldfläche. Es ist in der Lage, 1-3 Musterschichten pro Wafer schnell und präzise zu belichten, und seine 1 mm C-förmige Stufe ist entworfen, um Stufenbelastung und vibrationsinduzierte Musterplatzierungsfehler zu reduzieren. Es kommt auch mit einem High-End-Einwinkel-Beleuchtungssystem für überlegene Beleuchtung Gleichmäßigkeit, ermöglicht extrem dichte Musterung. Die Optomechatronik von NIKON NSR 1505 i10D bietet eine hervorragende Lithographieleistung. Es verfügt über eine proprietäre 4-Mikron Piezo-angetriebene lineare Bewegungsstufe, die eine gleichzeitige Bewegung von Wafer und Bühne mit hoher Stabilität gewährleistet. Darüber hinaus erweitert der Wafer-basierte Ansatz den Kompensationsbereich des Steppers auf 250 μ m und ermöglicht eine effiziente On-the-Fly-Kompensation für lokale und globale Verzerrungen. Darüber hinaus bietet NIKON InCelli Transfer Technology eine berührungslose Wafer-Übertragung, um den Platzbedarf des Steppers zu reduzieren, indem ein externes Übertragungsgerät entfällt. Die Makro-Vorschaufunktion analysiert das Hauptmerkmal des Layouts vor der Belichtung und kompensiert die globale Musterverzerrung und wählt gleichzeitig die richtigen Fokus- und Overlay-Werte aus, um die Belichtungsstrategie zu optimieren. NSR 1505 i10D wird auch mit einem spezialisierten Beleuchtungskopf geliefert, der für Verbesserungen bei der partikelfreien Strukturierung entwickelt wurde. Dies hilft, Partikel durch ölfreie Partikel und Photoresist Mischung sowie 3-Strahl gleichzeitige Bestrahlung verursacht reduzieren, um die By-Pass-Inspektion Leistung zu verbessern. Es wird durch ein umfassendes Servicepaket unterstützt, das eine erstklassige Werkzeugverfügbarkeit und effiziente Wartung mit einer minimierten Anzahl von Unterbrechungsstunden bietet. Die benutzerfreundliche Umgebung des Steppers umfasst High-End PASIV™ grafische Benutzeroberfläche und umfangreiche Anpassungsmöglichkeiten für den Betrieb. Insgesamt ist NIKON NSR 1505 i10D ein fortschrittlicher, hochpräziser Wafer-Stepper für die Herstellung von Halbleiterchips mit modernsten optomechatronischen Technologien, die hervorragende Genauigkeit und Durchsatz für anspruchsvolle, volumenreiche Lithographie-Anforderungen bieten.
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