Gebraucht NIKON NSR 1755 G7A #9227621 zu verkaufen

NIKON NSR 1755 G7A ist ein hochmoderner Wafer-Stepper für fortschrittliche Entwicklung und Herstellung von Photomasken. Das Gerät bietet überlegene Fotomasken-Bildqualität, hohen Durchsatz und niedrige Betriebskosten. Es ist in der Lage, bis zu 175 mm Scanfelder zu liefern. Das System bietet eine breite Palette von Belichtungsvarianten mit einer Auflösung von bis zu 1,00 nm. Es bietet auch maximale Flexibilität für den Anwender, Photomasken mit Genauigkeit und hohem Durchsatz zu produzieren. NIKON NSR-1755G7A ist mit einer kompakten einspaltigen Abtaststufe und einer hochpräzisen optischen Einheit ausgestattet, die eine schnelle und präzise Ausrichtung von Maske und Wafer ermöglicht. Es ist mit einer langlebigen Beleuchtungsquelle bestehend aus einem Xenonlicht und einer Präzessionsbewegungsoptischen Maschine ausgestattet, die das Licht hemi-sinusförmig abtasten kann. Dies gewährleistet einen hohen Durchsatz und eine gleichmäßige Beleuchtung. Der Wafer-Stepper verfügt außerdem über die NIKON einzigartige Scanning Laser Interferometer-Technologie für beispiellose Genauigkeit und Wiederholbarkeit in einem Schrittwerkzeug. Diese hochpräzise optische Anlage misst die Positionsverschiebung durch Interferenz von Laserlicht und bietet damit eine überlegene Genauigkeit gegenüber verschiedenen Belichtungsumgebungen. Darüber hinaus entspricht das Modell dem internationalen Lithographie-CAD-Standard (CLIP), der die Schnittstelle zu anderen Komponenten innerhalb der NIKON NSR Litho-Plattform erleichtert. Es unterstützt auch eine Vielzahl von Lithographie-Prozesstechnologien wie Darkfield-Bildgebung, Kontaktdruck, Laser-Scan-Maskenschneiden und Substratscannen. Die erweiterten Bildverarbeitungsfunktionen der Ausrüstung gewährleisten eine hochpräzise Erkennung, Charakterisierung und Rekonstruktion von lithographischen Defekten und anderen kritischen Merkmalen. Darüber hinaus bietet NSR-1755 G7A auch eine benutzerfreundlichere Benutzeroberfläche für die einfache Bedienung. Es ist mit einem mehrsprachigen Sequenzeditor (OPL) ausgestattet, um verschiedene Prozessanforderungen zu unterstützen. Das System verfügt über mehrere Funktionsoptionen wie Auto-False-Alarm-Erkennung, Reticle-Matching, verbesserte Ausrichtungstoleranz und Low-Power-Pre-Alignment. Insgesamt ist NSR 1755 G7A ein fortschrittlicher Wafer-Stepper, der den Anforderungen der heutigen anspruchsvolleren Photomasken-Entwicklungs- und Fertigungsprozesse gerecht wird. Die überlegene optische Genauigkeit, der hohe Durchsatz und die geringen Betriebskosten machen das Gerät zu einer idealen Lösung für fortschrittliche Lithographieanforderungen.