Gebraucht NIKON NSR 1755 i7 #9053209 zu verkaufen
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ID: 9053209
Stepper
Reduction Lens Type : 5iC1S-91359
PPD : YES
Reticle Size : 5"
Reticle Case : 8 each
Reticle Barcode Reader : YES
Movable Reticle Microscope : YES
Stage Screw : Ball Screw
Wafer Chuck : 6" ceramic
Pre Alignment 2 : YES 6" SEMI
Chip Leveling : YES
Exposure Field Size : 17.5mm x 17.5mm
RL Library Type : ARL
Extended RL Library : No
Wafer Size : 6 inch
Wafer OF Type : YES OF SEMI
Extended WL Carrier : (2) units
Inline Type : NO
Control Rack Position : Special LEFT
Alignment Sensor : LSA/FIA
Signal Tower : YES.
NIKON NSR 1755 i7 ist ein hochpräziser Wafer-Stepper, der für die Geräteherstellung in Halbleiter-, MEMS, LED und fortschrittlichen Verpackungsanwendungen entwickelt wurde. Diese Plattform der nächsten Generation wurde in Zusammenarbeit mit führenden Lithographieexperten von TSMC entwickelt, um einen erhöhten Durchsatz für die anspruchsvollsten Produktionsanforderungen zu erzielen. Der Wafer-Stepper NSR 1755 i7 bietet einen überlegenen Durchsatz mit einem maximalen Durchsatz von bis zu 90 Wafern pro Stunde bei einer Fokussiergenauigkeit von bis zu 0,07 Mikrometern für die Waferausrichtung. Es ist mit einer fortschrittlichen Stufensteuerung ausgestattet, die mehrere Arrays von Encodern für hohe Geschwindigkeit und präzise Einstellung der Bühne verwendet. Die Wafer-Bühne ist zudem mit einem Autofokus-System ausgestattet, das den Fokus der Wafer-Bilder mit großer Präzision einstellen kann. Der Wafer-Stepper profitiert auch von einem hochauflösenden Wafer-Chuck-Design, das eine genaue und reproduzierbare Leistung bei der Handhabung verschiedener Arten von Wafern ermöglicht. Diese NIKON NSR 1755 i7 Plattform wurde auch mit fortschrittlicher Projektionsoptik entwickelt, die ein asphärisches Objektivdesign verwendet, um den optischen Durchsatz zu erhöhen und Aberrationen zu verringern, die während der Exposition auftreten können. Die optische Einheit verwendet eine 5x5 mm Retikle mobile Maschine, die eine große Reihe von Masken ermöglicht, mit dem Stepper verwendet werden. Es verfügt auch über ein Polarisationskontrollwerkzeug, das Beugungsreduktion zur Verbesserung der Bildqualität bietet. NSR 1755 i7 ist mit einer benutzerfreundlichen grafischen Oberfläche und einem automatisierten Job-Editor ausgestattet, mit dem Benutzer schnell und bequem Auftragssequenzen einrichten und Parameter ändern können. Dieser Stepper beinhaltet ein Roboter-Asset, das den Wafer automatisch aus der Waferkassette lädt und entlädt, sowie ein Wafer-Chucking-Modell für präzises Wafer-Handling. NIKON NSR 1755 i7 beinhaltet auch eine umfassende Instandhaltungsausrüstung für präventives Wartungs- und Serviceanforderungsmanagement. Das System bietet auch Datenprotokollierungsfunktionen zur Analyse der Belichtungsgleichmäßigkeit und Stepper-Leistung. Es ist kompatibel mit verschiedenen Datenabrufquellen, einschließlich SNF und FabMaster, und bietet volle Unterstützung für OIF Laser Writer CHESS Standards. Insgesamt ist NSR 1755 i7 ein hochpräziser Wafer-Stepper, der entwickelt wurde, um überlegenen Durchsatz und Fokussiergenauigkeit für die Geräteherstellung in Halbleiter-, MEMS, LED und fortschrittlichen Verpackungsanwendungen bereitzustellen. Mit seiner fortschrittlichen Projektionsoptik, der benutzerfreundlichen Oberfläche, dem automatisierten Job-Editor, der Robotereinheit und der umfassenden Wartungs-Managementmaschine wurde diese Plattform entwickelt, um den Anforderungen der anspruchsvollsten Produktionsanforderungen gerecht zu werden.
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