Gebraucht NIKON NSR 1755 i7A #9062547 zu verkaufen

NIKON NSR 1755 i7A ist ein hochpräziser Wafer-Stepper, der speziell für Forschungs- und Entwicklungsanwendungen entwickelt wurde. Die 5-Achsen-Ausrichteinrichtung sorgt für eine optimale Positionierung und genaue Abtastung von Wafern mit einer Auflösung von bis zu 1 Nanometer. Es verfügt über zwei 5,5 kW Lampenquellen und einen 5 ″ NA 0,45 Beleuchter für hohen Durchsatz. Das Hauptmerkmal des Systems ist die hohe Gamma-Einstellung von 35, die maximale Photoresist-Bodengröße von 17,55 Zoll und die hervorragende Positionsgenauigkeit von 10 Nanometern entlang der X- und Y-Achse. NIKON NSR 1755I7A ist bei Durchsatz und Positionsgenauigkeit überlegen. Es verfügt auch über eine ultra-kurze Belichtungszeit von 0,5 ms, die stabil den Ausgangspegel der Belichtungsenergie gegen Änderungen in neutralen Dichte (ND) Filtereinstellungen hält. Dies ermöglicht eine genauere und flachere Belichtung mit konsistenten Ergebnissen. NSR-1755I7A verfügt über vier Antireflexkontrollparameter, um seine Leistung zu optimieren. Es verfügt außerdem über einen 3D-Scanner mit Neigungs- und Verdrehungsfunktionen, der ein hochpräzises Scannen auf Wafern mit starren Abmessungen ermöglicht. Das Gerät verfügt auch über seine eingebaute Redundanz, die eine höhere Zuverlässigkeit bei der Herstellung von Geräten mit feinen Linienbreiten bietet, wodurch vermieden wird, dass es zu Musterverzerrungen kommt. In Bezug auf die Bildgebung kommt NIKON NSR 1755 I 7 A mit einer fortschrittlichen digitalen Bildaufnahmemaschine, die die Verwendung von Dunkelfeld-Bildgebung mit ausgezeichneter Leistung ermöglicht. Das Werkzeug bietet auch eine hochpräzise Ausrichtungsregistrierung, wodurch es für Anwendungen wie Overlay-Messung, Messtechnik und Inspektion geeignet ist. NSR-1755 I 7 A ist ein ausgezeichneter Wafer-Stepper für diejenigen, die nach überlegenem Durchsatz, Positionsgenauigkeit, Zuverlässigkeit und Bildgebungsfunktionen suchen. Angesichts der geringen Betriebskosten und der Benutzerfreundlichkeit ist dies eine ideale Plattform für fortschrittliche lithographische Anwendungen in einer Vielzahl von Forschungs- und Entwicklungsbereichen wie Photomasken, Halbleiterbauelementen und MEMS.