Gebraucht NIKON NSR 1755 i7A #9212123 zu verkaufen
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Verkauft
ID: 9212123
Wafergröße: 6"
Stepper, 6"
Chamber
Type: ASAHI S75
Set temperature: 24°C
FIA
PLC Type: MITSUBISHI MELSEC F1-60MR
Reticle microscope: 17.5 mm Variable
Reticle size: 5"
HP Laser:
5517 A
5 mW
ITV Camera: Custom
OF Detection type: NIKON
OF Sensor and OF ud motor: Normal 3.1:1
Wafer loader type: Type 1
Wafer condition: Silicon
Wafer carrier table: Right / Left
Rack type: Right
Does not include Electric source Nema box.
NIKON NSR 1755 i7A ist ein hochmodernes Produktionswerkzeug für die Photolithographie. Es ist ein hochpräziser Wafer-Stepper, der fortschrittliche ein- und zweistufige Funktionen mit einer Größe von bis zu 0,025 µm herstellen kann. Das integrierte Design des Geräts kombiniert hohe Durchsatzleistung, Verarbeitungsleistung und Stabilität für die serienstarke Fertigung mit extrem geringem Ertragsverlust. Die Nanometerüberlagerung und Registriergenauigkeit gewährleistet eine ausgezeichnete Linienbreitenkontrolle und Gleichmäßigkeit über die Matrize. Herzstück des Systems ist der hochgenaue sechsachsige Bewegungsroboter, der die Nanometergenauigkeit bei einer maximalen Beschleunigung von 6G beibehält. Es ist in der Lage, die Wiederholbarkeit von Trace-to-Trace von weniger als 1 nm zu verfolgen. Der Roboter ist weiter mit einem Hochgeschwindigkeits-Fotomaskenwechsler und einem hochpräzisen Substrat- und Maskenausrichter integriert, um die Rüstzeiten zu minimieren. Weitere Merkmale von NIKON NSR 1755I7A sind eine variable, automatisierte Linsenausrichteinheit, die die Ausrichtungs- und Fokusqualität genau aufrechterhält, und eine hochempfindliche, weiträumige Belichtungsmaschine mit einem dynamischen Bereich von 2 Größenordnungen. Es ist auch skalierbar und erweiterbar, um zukünftige Anforderungen zu erfüllen. NSR-1755I7A wird für lange Zykluszeiten und eine breite Palette von Substraten entwickelt. Es ist für die sichere Verarbeitung von Wafern zwischen 55 und 253mm ausgelegt und kann bei Temperaturen bis zu 16 ° C arbeiten, um eine minimale Schrumpfung an den Rändern zu gewährleisten. Es ist auch in der Lage, bis zu 30 Belichtungen pro Wafer zu handhaben, was die Zykluszeiten insgesamt reduziert. Das funktionsreiche NIKON NSR-1755 I 7 A macht es zu einer bevorzugten Wahl für viele photolithographische Anwendungen, darunter MEMS, optoelektronische Bauelemente und Halbleiter. Seine fortschrittliche Technologie und seine leistungsstarken Fähigkeiten machen es zu einer ausgezeichneten Wahl für die Produktion jeder Größe, vom Prototyping bis zur Vollserienfertigung.
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