Gebraucht NIKON NSR 1755 i7A #9256260 zu verkaufen

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NIKON NSR 1755 i7A
Verkauft
Hersteller
NIKON
Modell
NSR 1755 i7A
ID: 9256260
Wafergröße: 4"-8"
Weinlese: 1992
i-Line stepper, 4"-8" Reticle, 5" Thickness: 0.09" Material: Quartz glass / Low-expansion glass Type: Low-reflection chromium mask (Single layer chromium also acceptable) Resolution: 0.50 µm Lens distortion: ±0.07 µm Magnification control: ±0.03 µm Maximum exposure area: 24.74 mm dia Reticle bind setting accuracy: +0.4 +0.8 mm Exposure power: 600 mW / cm³ Integrated exposure stability: ±1.4% Illumination uniformity: ±1.5% Focus calibration repeatability: Within 0.15 µm Reduction ratio: 5:1 Field: 17.5 O.45 Resolution (NA): 0.5 Global alignment: 0.18 um Reticle rotation: Absolute value: Within ±0.02 µm of target value Repeatability: Within 0.02µm Alignment accuracy: WGA X+3ơ ≤ 0.18 µm EGA X+3ơ ≤ 0.11 µm Array orthogonality: ±0.2 Sec Stepping precision: 0.8 µm (3s) Reticle pre-alignment accuracy: ±2 mm Interchangeability: ±0.12 µm Stepping rate: <11 Sec (100 mm) <20 Sec (125 mm) <28 Sec (150 mm) Throughput: WGA: <21 min (125 mm) <21 min (125 mm) <22 min 40 sec (150 mm) EGA: <21 min (125 mm) <21 min 15 sec (125 mm) <24 min 50 sec (150 mm) 1992 vintage.
NIKON NSR 1755 i7A ist ein Hochleistungs-Wafer-Stepper für Einzelwafer-Lithographieanwendungen. Es ist mit NIKON der neuesten Generation von NIKON Semiconductor Lithography Optics (NSL Optics) ausgestattet, die eine ultrapräzise Bildgebungstechnologie verwenden, um eine präzise Herstellung komplexer integrierter Schaltungsmuster (IC) zu ermöglichen. NIKON NSR 1755I7A basiert auf NIKON „i Plattform“, die dem Wafer Stepper überlegene Stabilität und Genauigkeit für einzelne Wafer Lithographie verleiht. Die i Plattform nutzt einen hochpräzisen, direkt angetriebenen Schrittmotor, um die Waferstufe zu bewegen und die Genauigkeit und Stabilität des Systems weiter zu verbessern. Die Plattform beinhaltet auch eine Beschleunigungssteuerung mit hoher Geschwindigkeit zur schnellen Mustererkennung und Phasenanpassung. Die Maschine ist mit zwei fortschrittlichen NIKON Semiconductor Lithography Optics (NSL Optics) Systemen ausgestattet, die eine überlegene Leistung und hohe Auflösung für die Belichtung von 2D- und 3D-IC-Mustern bieten. Die erweiterten Optiksysteme haben einen großen Auflösungsbereich von 0,2 Mikrometer (2 nm) bis 20 Mikrometer (200 nm). Darüber hinaus kann das Werkzeug mit mehreren verschiedenen Beleuchtungsmöglichkeiten konfiguriert werden, darunter Konstante K, Kalibrierte K und Intensität K-Beleuchtung. Für wiederholbare Genauigkeit und Zuverlässigkeit beinhaltet NSR-1755I7A eine fortschrittliche automatische Ausrichtung. Das automatische Ausrichtungsmodell kann die Position des Wafers genau erkennen und an der bildgebenden Optik ausrichten, ohne dass ein manueller Eingriff in die Ausrichtung erforderlich ist. Dies hilft, die Anzahl der Ausrichtungsfehler zu reduzieren und die Zeit für die Platzierung von Wafern zu verringern. NIKON NSR 1755 I 7 A ist auch mit einem High-Speed-Wafer Handling-Gerät ausgestattet, das einen schnellen Wafer-Austausch mit bis zu 2,5 Wafern pro Sekunde durchführt. Dies hilft, die Prozesszeit zu reduzieren und bietet einen enormen Durchsatz bei gleichzeitig hoher Genauigkeit. Darüber hinaus ist der Stepper auch mit einem Prozeßdiagnosesystem ausgestattet, das bei der Waferbelastung schnell Defekte und Anomalien erkennen kann. Insgesamt ist NSR-1755 I 7 A Wafer Stepper eine fortschrittliche Einheit, die überlegene Leistung für einzelne Wafer Lithographie bietet. Es ist für hohe Wiederholgenauigkeit und Genauigkeit ausgelegt und bietet eine breite Palette von Auflösung und Beleuchtung Unterstützung. Die fortschrittliche Automatisierungs- und Prozessdiagnose stellt sicher, dass die Maschine zuverlässige und fehlerfreie IC-Muster mit optimalem Durchsatz bereitstellen kann.
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