Gebraucht NIKON NSR 1755 i7B #9160458 zu verkaufen

NIKON NSR 1755 i7B
Hersteller
NIKON
Modell
NSR 1755 i7B
ID: 9160458
Wafergröße: 2"
Stepper, 2" Reticle size: 5".
Schritt-NIKON NSR 1755 i7B Oblate ist eine Hochleistungsimmersionsteindruckverfahrenbildaufbereitungsausrüstung, die in erster Linie für die Maske und Fadenkreuzniveausteindruckverfahrenanwendungen entworfen ist. Dieser Wafer-Stepper ist mit antistatischer Lötstoss-Abbildungstechnologie ausgestattet, die die Herstellung von feinen detaillierten 3D-Bildern selbst kleinster Lötstöße ermöglicht. Dieses System verfügt über eine hochauflösende Kamera von 82um, die die Herstellung von Halbleiterchips mit ultradichten Konstruktionsregeln ermöglicht. Darüber hinaus gewährleistet das Auf-Achse-Ausrichtungsmerkmal eine maximale Ausrichtgenauigkeit, wodurch der Düsendurchsatz erhöht wird. NIKON NSR-1755I7B Wafer Stepper wird verwendet, um ein Master-Muster zu erstellen, das als Retikel bezeichnet wird, das verwendet wird, um ein Bild auf die Wafer zu übertragen. Diese Einheit verfügt über eine 25,4 mm Retikelfeldfläche, die eine präzise Abbildung großer Belichtungsfelder und eine hochpräzise Abbildung kleiner Mikrogeräte wie Speicherchips ermöglicht. Die Retikel werden in der Regel aus Quarz hergestellt, wodurch sie für die Bildübertragung auf die Wafer hocheffizient sind. Diese Maschine ist mit einer fortschrittlichen Autofokus-Steuerung ausgestattet, die Fehler in der Fokusebene überwacht und korrigiert und dabei automatisch die Gesenkgrenzen des Musters erkennt. Dies macht dieses Werkzeug ideal für die Produktion mit engen Konstruktionsregeln und hohen Erträgen. NSR 1755 i7B Wafer Stepper ist für maximale Effizienz und Zuverlässigkeit unter schwierigen Produktionsbedingungen ausgelegt. Mit seinem Hochleistungslaservorsprungsvermögenswert ist es zu bis zu 4.500 Oblaten pro Stunde - ein Durchfluss von bis zu 1,6 GHz fähig. Das Modell verfügt über ein Steuergerät, das die Belichtungsbedingungen für jeden Schuss optimiert, den Durchsatz und die Gleichmäßigkeit der Wafer erhöht. Dieses Steuerungssystem ist auch in der Lage, für Belichtungszeit, Dosis und Fokus zu optimieren und bietet absolute Prozesskontrolle und Stabilität. NSR-1755I7B Wafer Stepper ist die perfekte Lösung für Wafer-Level-Imaging, die einen hohen Durchsatz, außergewöhnliche Gleichmäßigkeit und zuverlässige Ergebnisse bietet. Es ist eine leistungsstarke, leistungsstarke Einheit mit fortschrittlichen Bildgebungsfunktionen und optimierter Beleuchtung, die eine exzellente Stempelmusterung mit Genauigkeit und Gleichmäßigkeit gewährleistet. Mit seiner fortschrittlichen Autofokus-Steuerung sorgt es für eine gute Fokusflugstabilität und macht diese Maschine zur perfekten Wahl für die hochauflösenden Anforderungen der modernen Halbleiterindustrie.
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