Gebraucht NIKON NSR 1755 i7B #9261834 zu verkaufen

NIKON NSR 1755 i7B ist ein hochmoderner Wafer-Stepper der NIKON Corporation. Das Gerät hat einen Balkendurchmesser von 0,33 mm und eine Mustergröße von 300mm × 300mm, was es ideal für eine breite Palette von Anwendungen macht. Insbesondere ist NIKON NSR-1755I7B in der Lage, Lithographiemuster auf Photomasken und Wafern herzustellen sowie kritische Wafer-Fehlerinspektionen und Reverse Engineering durchzuführen. NSR 1755 i7B ist mit einer Reihe fortschrittlicher Optik ausgestattet, die eine Auflösung von bis zu 1,6 Mikrometer und eine Wiederholbarkeit von bis zu 10 mm bietet. Damit kann das System sowohl für die Produktions-Photolithographie als auch für die Retikelinspektion eingesetzt werden. Einige der Hauptmerkmale des Geräts umfassen interessante Bereiche mit variabler Größe, Parameter für mehrere Scans, die automatische Fokussierung und die Fähigkeit, dynamische Bilder zu erfassen. Im Hinblick auf die bildgebenden Funktionen ist NSR-1755I7B in der Lage, hochauflösende und hochvergrößerte Bilder zu erzeugen. Dies geschieht mit einem Array von 510nm Wellenlänge LED-Energie. Die Maschine ist auch in der Lage, zweidimensionalen oder dreidimensionalen Autofokus durchzuführen. Das Werkzeug ist auch sehr zuverlässig. Es verfügt über eine Bildverarbeitungsplatine, die bis zu 500 Bilder pro Sekunde ermöglicht, und eine Scan-Servoachse, um genaue und konsistente Ergebnisse zu gewährleisten. Darüber hinaus kann die Anlage so programmiert werden, dass sie Hochgeschwindigkeitsbilder für Reverse Engineering-Zwecke erfassen und analysieren kann. Darüber hinaus ist NIKON NSR 1755 i7B mit fortschrittlichen Sicherheitsfunktionen ausgestattet. Es verfügt über einen speziellen luftgetragenen Partikelsensor, um Verunreinigungen zu erkennen, die das Modell beschädigen können. Die Ausrüstung hat auch einen Not-Aus-Knopf für zusätzliche Sicherheit. Insgesamt ist NIKON NSR-1755I7B ein leistungsfähiger und zuverlässiger Wafer-Stepper, der in der Lage ist, den Anforderungen jeder Forschungs- oder Produktionsumgebung gerecht zu werden. Dank seiner fortschrittlichen Optik und bildgebenden Funktionen ist es eine ideale Wahl für die Herstellung hochwertiger Photolithographiemuster sowie für Reverse Engineering und Fehlerinspektion. Die robusten Sicherheitsmerkmale sorgen zudem dafür, dass die Ergebnisse zuverlässig und wiederholbar sind.