Gebraucht NIKON NSR 1755 i7B #9268107 zu verkaufen
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ID: 9268107
Wafergröße: 6"
Stepper, 6"
Flat wafer
ASAHI S78 Chamber
PLC Type: MELSEC F1-60 MR, F1-60 ER
Variable reticle microscope: 15 mm and 17.5 mm
AGILENT / HP / HEWLETT-PACKARD / KEYSIGHT 5517A Laser
LSA Laser: 5 mW
ITV Camera: RA CCD XC-77
Silicon wafer
OF Sensor: NIKON
UD Motor: 5.44:1
Wafer loader type: Type 1
No in-line
Wafer carrier table: Left and right
FIA
Reticle, 5"
Reticle case: 26 mm
(13) Reticle slots
No PPD / PD
Rack type: Right
Chamber temperature:
Chamber: 23°C
LATC: 22.6°C
Power: 200 V, 3-Phase, 4 Wires, 75 Amps.
NIKON NSR 1755 i7B ist ein hochmoderner Wafer-Stepper, der eine außergewöhnlich genaue Photolithographie für die Herstellung von Halbleiterbauelementen bietet. Dieses Modell verfügt über ein erweitertes Elektronenstrahl-Lithographiesystem (EBL), das überlegene Auflösungen bis zu 0,01 μ m ermöglicht. Es ist mit einer schweren Rahmenstruktur für eine genaue Bühnenausrichtung ausgestattet und verfügt über die neueste NIKON Scan Angle Control (NSC) Technologie für verbesserte Positionsgenauigkeit des Wafers. Darüber hinaus ist NIKON NSR-1755I7B Wafer Stepper in der Lage, mit einer unübertroffenen Aufnahmegeschwindigkeit von bis zu 1,0 Sekunden/Matrize eine direkte bis zu Substrat-Strukturierung zu erreichen - wodurch lange Belichtungszeiten entfallen. Das fortschrittliche EBL-System bietet zudem eine unschlagbare Auflösung, Hochgeschwindigkeits-Scanning und hervorragende Ausrichtungsgenauigkeit. Dieses Modell umfasst einen hohen Durchsatz, einen großflächigen Scanner und eine einzigartige Hochspannungsoptik für schnelles Scannen und optimierte Musterüberlagerung. Die Hochgeschwindigkeitskommunikation zwischen EBL-Steuergerät und NSR 1755 i7B Wafer Stepper ermöglicht es dem Bediener, mehrere Prozessschritte genau zu steuern, wie die Aufrechterhaltung der Position während langer Belichtungen, die Einstellung der Scangeschwindigkeit und Größe des Musters und andere Wafer-Vorverarbeitungseinstellungen. NSR-1755I7B Wafer-Stepper verfügt auch über erweiterte Wafer-Klemmfunktionen, die genaue Anpassungen und schnelle Änderungen ermöglichen, wenn sie von verschiedenen Substraten beanstandet werden. Seine hochpräzisen Antriebssysteme erhöhen die Registriergenauigkeit und Stabilität über eine Vielzahl von Betriebsbedingungen. Das Modell bietet auch eine automatisierte Ausrichtungsfunktion mit Musterübersetzung und Skalenanpassungen und verwendet einen einzigartigen Kantendetektor, um den Wafer schnell unter einem Mikroskop zu lokalisieren. Schließlich bietet NIKON NSR 1755 i7B Wafer Stepper branchenführende Genauigkeit und Durchsatz, so dass es eine ideale Wahl für große und kleine Geräte Herstellung. Die schnellen Scanmöglichkeiten, die Vielfalt der Lithographie und die einstellbaren Bühneneinstellungen des Modells geben ihm die Flexibilität, für eine breite Palette fortschrittlicher Verfahren zur Geräteherstellung verwendet zu werden. Seine benutzerfreundliche Oberfläche macht es einfach zu bedienen, während seine überlegene Musterauflösung und überlegene Prozessleistung machen es die ideale Wahl für jede Wafer Stepper-Anwendung.
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