Gebraucht NIKON NSR 1755 i7B #9279749 zu verkaufen

Hersteller
NIKON
Modell
NSR 1755 i7B
ID: 9279749
Wafergröße: 6"
Stepper, 6" Wafer type: Flat Wafer loader type: Type I Leveling system: Claw sub-system Arm Main body with chamber Monitor RA Microscope Reticle loader: Mask, 5" Arm Reticle library: Single film 13-Slot Wafer stage: Chuck, 6" LC Mirror.
NIKON NSR 1755 i7B Wafer Stepper ist eine Hochleistungs-Serie von Lithographie-Ausrüstung entwickelt, um verbesserte Fertigungsfähigkeiten für Halbleiterbauelementproduktion zur Verfügung zu stellen. Dieses System ist eine voll ausgestattete Lithographie-Plattform mit einem Scanner der vierten Generation, einem vollständig integrierten Lithographie-Kontrollsystem und einer Reihe fortschrittlicher Lithographie-Prozesse. Es verwendet eine patentierte zweistufige Architektur, die eine hohe Overlay-Präzision und Fehlererkennung ermöglicht. NIKON NSR-1755I7B ist mit fortschrittlicher Optik ausgestattet, die genaue Fokussierung, Funktionserkennung und Waferausrichtung bietet. Die Optik ist auch für längeren Arbeitsabstand und geringe Steilheit optimiert, wodurch keine Artefakte durch Aberration gewährleistet sind. Die fortschrittliche Lithographie-Plattform ist in der Lage, Belichtungszeiten so schnell wie 10ms zu liefern, so dass ein höherer Durchsatz bei gleichzeitiger Aufrechterhaltung überlegener Bildqualität möglich ist. NSR 1755 i7B kommt vorkonfiguriert mit NIKON modernsten Lithographie-Algorithmen wie Impulsive Pattern Generator (IPG), Multi-Circle Exposure (MCE) und Scan Matching Algorithmus (SMA). Diese Algorithmen ermöglichen die optimale Nutzung von Belichtungsressourcen, was zu kürzeren Durchlaufzeiten führt. Der Wafer-Stepper bietet zudem die schnellste Mustererkennungszeit, wodurch die Reinigungszeit des Substrats reduziert und hohe Ausbeute gewährleistet wird. Darüber hinaus umfasst NSR-1755I7B ein integriertes Losmanagement-System, das ein sicheres und zuverlässiges Mittel zur Verfolgung von Wafern und Montage-/Inspektionsdaten bietet. Es verfügt auch über eine sehr intuitive Benutzeroberfläche, die Lithographie-Operationen vereinfacht und eine optimale Prozesssteuerung gewährleistet. Dieser Wafer-Stepper ist sowohl für die Hochvolumen- als auch für die Hochmix-Halbleiterherstellung konzipiert, so dass er in einer Vielzahl von Anwendungen eingesetzt werden kann. NIKON NSR 1755 i7B bietet präzise direkte Schreib- und Ausrichtungsfunktionen für fortschrittliche Lithographieverfahren. Seine hohe Geschwindigkeit und Genauigkeit machen es ideal für die Serienproduktion und seine fortschrittlichen Funktionen sorgen dafür, dass es für komplexe Gerätemuster gut geeignet ist. Schließlich ist die Maschine auch sehr zuverlässig und benutzerfreundlich, so dass es eine beliebte Wahl für Lithographie-Institutionen auf der ganzen Welt.
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