Gebraucht NIKON NSR 2005 i10C #293591969 zu verkaufen

NIKON NSR 2005 i10C
Hersteller
NIKON
Modell
NSR 2005 i10C
ID: 293591969
Weinlese: 1955
Stepper 1955 vintage.
NIKON NSR 2005 i10C Wafer Stepper ist eine Präzisionsausrichtung für die Lithographie-Industrie. Es verfügt über die neueste In-Objektiv-Technologie und ein bildgebendes System, das eine ultra-hohe Auflösung mit einem großen Arbeitsabstand bieten kann. NIKON NSR 2005I10C ist ein Spitzenmodell der NIKON JEDM Stepperreihe. Es ist extrem leistungsstark und zuverlässig, mit einem verbesserten Durchsatz und mehr Präzision. Der Stepper ist mit einer 10-Zoll-DUV-Optik, einem Sichtfeld von 14,5 mm x 18 mm und einem Arbeitsabstand von 287 mm ausgestattet. Diese Kombination aus Optik, Feldgröße und Arbeitsabstand ermöglicht dem Stepper eine hohe Genauigkeit bei minimalen Aberrationen. Der Stepper verfügt über eine hochpräzise mechanische Maschine mit einer Y-Richtung piezogetriebenen Stufe und einer X-Richtung automatischen Stufe. Die Bühnenbewegungen sind auf weniger als einen Mikron genau und können für komplexe Lithographieaufgaben verwendet werden. Der Stepper ist mit dem neuesten NIKON-Bildgebungstool ausgestattet, das eine 14-Megapixel-JPEG-CCD, eine motorisierte Zoomoptik, ein integriertes Autofokus-Modell, eine Kontrastverbesserungsausrüstung und einen einstellbaren Diffusionsfilter umfasst. Dieses bildgebende System bietet eine Auflösung von bis zu zwei μ m und eine Abtastgenauigkeit von 0,5 μ m pro Quadrat. NSR-2005I10C ist benutzerfreundlich und mit vielen fortschrittlichen Automatisierungsfunktionen ausgestattet. Es verfügt über eine integrierte Job-Status-Überwachungseinheit, einen Autofokus-Rechner und eine Bildverarbeitungsmaschine, die Aberrationen reduzieren kann. Darüber hinaus kann der Wafer-Stepper mit einer breiten Palette von Zubehör wie Waferhaltern, Kontaktbildsensoren und Mikroskopen ausgestattet werden, so dass er sich an jede Art von Lithographieanwendung anpassen kann. NSR 2005I10C ist ein leistungsstarker und zuverlässiger Wafer-Stepper, der entworfen wurde, um ultrahochauflösende Bilder mit minimalen Aberrationen und einem großen Arbeitsabstand bereitzustellen. Sein hochpräzises mechanisches und optisches Werkzeug in Kombination mit seinen fortschrittlichen Automatisierungsfunktionen machen es ideal für komplexe Lithographieaufgaben.
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