Gebraucht NIKON NSR 2005 i10C #9227509 zu verkaufen

NIKON NSR 2005 i10C ist ein Lithographiestepper für die Halbleiterherstellung. Es ist in der Lage, sehr detaillierte Muster in einer Vielzahl von Materialien zu produzieren, einschließlich Silizium, Galliumarsenid, Metalllegierungen und anderen Halbleiter- und dielektrischen Materialien. Der i10C verwendet eine Stepper-Technologie, die eine wiederholbare und genaue Strukturierung komplexer Designs auf Substraten ermöglicht. In der Schritttechnik wird das Muster mit einem ultravioletten Lichtstrahl oder aus einem Elektronen- oder Ionenstrahl auf einen Wafer oder Substrat geätzt. In der Lithographie wird ein Licht- oder Elektronenstrahl durch eine Maske auf ein Substrat oder einen Wafer gerichtet und fokussiert. Das Licht oder die Elektronen, die die Maske passieren, werden dann auf den Wafer aufgebracht und ein Bild erzeugt. Das i10C ist mit einer hohen NA-Linse und einer Auflösung von 0 .091µm ausgestattet, was eine hochgenaue Strukturierung ermöglicht. Das System ist auch mit einem erweiterten Scanless-Ausrichtkopf ausgestattet, um eine sehr hohe Präzisionsausrichtung von Mustern in drei Dimensionen zu gewährleisten. Es verfügt auch über eine Sub Resolution Assist Feature (SRAF) -Funktion, die die Genauigkeit und den Durchsatz von Unterauflösungskomponenten verbessert. NIKON NSR 2005I10C ist mit einer Reihe von Sicherheitsmerkmalen, einschließlich einer Anti-Kontamination Haube, Lichtvorhang und berührungslose Flüssigkeitsversorgung. Darüber hinaus verfügt das System über eine Reihe von eingebauten Sensoren und Detektoren zur Überwachung der Betriebsbedingungen des Schrittschalters und seiner Komponenten. Das i10C ist für die Bearbeitung von bis zu 200 Wafern pro Stunde ausgelegt und für minimale Ausfallzeiten und maximale Auslastung optimiert. Die erweiterten Funktionen ermöglichen eine flexible und konsistente Verarbeitung. Der Stepper ist extrem zuverlässig und in der Lage, Muster mit Kantenplatzierungen bis zu 10nm zu produzieren. Zusammenfassend ist NSR-2005I10C Wafer-Stepper eine hochentwickelte Lithographiemaschine für Halbleiter- und dielektrische Materialien. Es ist mit einem hohen NA-Objektiv und einer Auflösung von 0 .091µm sowie einer Reihe von Sicherheitsfunktionen und erweiterten Funktionen ausgestattet. Diese Maschine ist in der Lage, extrem präzise und präzise Muster bei Geschwindigkeiten von bis zu 200 Wafern pro Stunde zu produzieren und seine fortschrittlichen Funktionen bieten eine flexible und zuverlässige Verarbeitung.