Gebraucht NIKON NSR 2005 i10C #9236760 zu verkaufen

NIKON NSR 2005 i10C Wafer Stepper ist ein High-End-Instrument zur Herstellung von fortschrittlichen Halbleiterprodukten. Es ist eine vollautomatisierte Schritt-und-Wiederholungs-optische Mikrolithographie-Ausrüstung, die große Wafer abbilden kann. Das System ist in der Lage, Wafer-Level-Optik in einem Bereich von Größen zwischen 6 und 12 Zoll zu produzieren. NIKON NSR 2005I10C ist Teil der NIKON NSR Serie von High-End-Lithographiesystemen. NSR-2005I10C bietet höchste Leistung und Kosteneffizienz. Diese Einheit verwendet alternierende Dual-Field-optische Bildgebungstechnologie, um eine hohe Belichtungsgleichmäßigkeit über beide Blickfelder zu erzeugen, wodurch Dösen-Belichtungsschwankungen über große Bereiche des Wafers gleichzeitig minimiert werden. Die Dual-Field-Optik ermöglicht große Belichtungsfelder von bis zu 25 mm Größe, wodurch diese Maschine große Substratflächen in einer einzigen Aufnahme abbilden kann. NIKON NSR-2005I10C verfügt über eine einzigartige Belichtungseinheit, die zu den besten ihrer Klasse zählt. Die Belichtungseinheit besteht aus einer rekonfigurierbaren Kondensatorlinse, einem Lichtverschluss und einem Wafer-Spannfutter mit Elektrode und Lünette. Das Werkzeug verwendet drei motorisierte Stufen, um das Nachspannen, das Seitenverhältnis und die Umleitung des Bildes auf das Substrat durchzuführen. Diese Belichtungseinheit bietet hohe Belichtungsgleichmäßigkeit, geringe Prozessvariation und geringe Ausfallzeiten. NSR-2005 I 10 C verwendet auch ein Multi-Head/Multi-Beam Imaging-Asset, das in der Lage ist, mehrere Belichtungsfelder in einem Belichtungsprozess zu erzeugen. Das Modell ist in der Lage, sehr kleine Merkmalsgröße, genaue Overlay-Positionen und ausgezeichnete Bildqualität in einer Vielzahl von Resistbelichtungsbedingungen zu produzieren. Das Gerät hat eine Gesamtgenauigkeit von 1,5 Mikrometern in der X-, Y- und Z-Achse und ist in der Lage, Auflösungen bis zu 0,2 Mikrometer. Das System verfügt über eine trockene Reinigungsfähigkeit, wodurch ein nasser Prozess entfällt. NSR 2005 I 10 C wurde entwickelt, um benutzerfreundlich und effizient zu sein, bietet automatische Substratausrichtung, automatische Belichtungsoptimierung, Echtzeit-fotografische Retikelinspektion und Kurven-Fit-Analyse von mehreren ID und Blendeneinstellungen. Das Gerät bietet auch eine grafische Benutzeroberfläche (GUI) mit mehrsprachiger Unterstützung. Die GUI ermöglicht dem Benutzer den einfachen Zugriff auf die professionellen Bildgebungsfunktionen der Maschine. NSR 2005 i10C ist eine zuverlässige und leistungsstarke Wafer-Schrittmaschine, die den anspruchsvollsten optischen Mikrolithographieanwendungen gerecht wird. Es bietet höchste Leistung und Kosteneffizienz und kann ausgezeichnete bildgebende Ergebnisse in einer Vielzahl von Resistbelichtungsbedingungen produzieren. Das Tool verfügt über Echtzeit-fotografische Retikel-Inspektion, Trockenreinigung und eine benutzerfreundliche GUI für den einfachen Zugriff auf die bildgebenden Funktionen der Maschine.