Gebraucht NIKON NSR 2005 i10C #9378020 zu verkaufen

NIKON NSR 2005 i10C ist ein Wafer-Stepper und eine computergesteuerte Maschine zur Herstellung von integrierten Schaltungen (IC) Photomasken-Mustern auf der Oberfläche eines Wafers. Diese Art von Stepper verwendet eine hochauflösende Bildprojektion, um ein Maskenmuster genau auf den Wafer zu übertragen. NIKON NSR 2005I10C Geräte sind für die Übertragung einer einschichtigen Maske auf den Wafer mit einem Laserscanprojektionssystem ausgelegt. Es ist in der Lage, hochpräzise und Hochgeschwindigkeits-Photomasken-Muster auf einen Wafer zu liefern. Der Scanner verwendet einen Laser, der durch eine rotierende Apertur auf den Wafer fokussiert wird. Der Scanner verfügt sowohl über eine schnelle Scan- als auch über eine Stufen- und Wiederholungsausrichtungsfunktion. Die Projektionseinheit wurde entwickelt, um eine hohe Ausrichtungsgenauigkeit zu gewährleisten und Registrierungsfehler „auf Nanometerebene“ zu halten. NSR-2005I10C besteht aus einer Reihe von Komponenten, die zusammenarbeiten, um hohe Genauigkeit und Leistung zu gewährleisten. Dieser Wafer-Stepper umfasst einen Mustergenerator, eine Fotomaske, eine Retikelstufe, ein vierachsiges Reflexmodul, einen Bildsensor und eine Objektlinse. Der Mustergenerator ist für die Erzeugung des Musters verantwortlich, das auf den Wafer projiziert wird. Die Fotomaske ist eine lithographische Vorlage, die das Muster enthält, das auf den Wafer gedruckt wird. Die Retikelstufe ist eine automatisierte Plattform, die die Fotomaske hält und die Fotomaske in die richtige Position bringt, damit der Laser sie scannen kann. Das vierachsige Reflexmodul ist ein Steuergerät, das die vier Freiheitsgrade (X, Y, Θ x, Θ y) des Wafers messen und einstellen soll. Der Bildsensor ist an der Objektivlinse angebracht und dient zur Aufnahme des auf den Wafer projizierten Bildes. Die Objektivlinse ist für die Fokussierung der Laserprojektionsmaschine auf den Wafer verantwortlich. NIKON NSR-2005I10C Tool wurde entwickelt, um hochpräzise und schnelle Fotomasken auf den Wafer zu liefern. Es ist in der Lage, hochauflösende Muster mit sehr geringen Registrierungsfehlern zu übertragen. Es ist auch dazu fähig, schnell Abtastung und Stief-Und-Mehrmaliganordnungsfähigkeiten zu bieten. Außerdem enthält dieser Wafer-Stepper eine Reihe von Funktionen wie ein integriertes Auto Exposure Adjustment Asset, eine hohe Ausrichtungsgenauigkeit und eine Toolbox zur Mustergenerierung. Insgesamt ist der NIKON NSR-2005 I 10 C Wafer Stepper eine computergesteuerte Maschine, mit der integrierte Schaltkreise Photomasken-Muster auf die Oberfläche eines Wafers erzeugt werden. Es wurde entwickelt, um hochpräzise und schnelle Fotomasken auf den Wafer zu liefern und enthält eine Reihe von Funktionen, die eine hohe Genauigkeit und Leistung bieten.