Gebraucht NIKON NSR 2005 i11D #293813221 zu verkaufen

Hersteller
NIKON
Modell
NSR 2005 i11D
ID: 293813221
Wafergröße: 6"
Weinlese: 1996
i-line stepper, 6" VAX Station control system Operation Panel (OPD) Reticle Loader (RL) Wafer Loader (WL) Environment chamber Lens Controller (LC) Alternating Current (AC) power distribution system Electricity box Link to wafer track from left side 1996 vintage.
NIKON NSR 2005 i11D ist ein hochmoderner Wafer-Stepper zur schnellen und präzisen Herstellung von Photomasken für die Halbleiterherstellung. Der fortschrittliche Wafer Stepper verfügt über eine sehr große Bühne mit einer Wegstrecke von 800 x 900 mm. Es ist mit zwei unabhängig gesteuerten Stufen für doppelseitige Ausrichtung und verbesserte Genauigkeit ausgestattet. Mit mehreren Mess- und Ausrichtungsoptionen kann NIKON NSR-2005I11D selbst komplexeste Maskendesigns präzise und exakt reproduzieren. Die fortschrittlichen Laser- und Optiksysteme der NSR 2005 I 11 D sind perfekt für hochpräzise Anwendungen. Die Stufen- und Wiederhollithographie-Ausrüstung verwendet eine hochmoderne ultrastabile optische Plattform, während eine Vielzahl von Beleuchtungsmodus-Optionen es sehr anpassungsfähig an verschiedene Wafergrößen macht. Die laserbasierten Mechanismen wurden für Höchstleistungen konzipiert und optimiert und bieten eine Auflösung von bis zu 0,3 Mikrometern mit hochgenauer Platzierungsgenauigkeit. Darüber hinaus verfügt NIKON NSR 2005 I 11 D über einen innovativen AutoAligner, der sich perfekt für höchste Genauigkeit und Ausrichtung bei der Herstellung mehrerer Schichten eignet. Das System unterstützt auch sehr große Sichtfelder mit einem maximalen Feld von 28mm x 28mm und einem minimalen Feld von 3mm x 3mm. Der Bildsensor hat eine hohe Empfindlichkeit und ist somit die perfekte Wahl für Low-K1-Anwendungen. Die fortschrittliche Steuereinheit von NSR-2005I11D optimiert die Lithographieleistung weiter. Es kommt mit insgesamt vier einzelnen Dosissteuerungen, die verwendet werden können, um die Expositionsdosis auf jedes Muster einzeln anzupassen. Darüber hinaus unterstützt die Maschine eine große Auswahl an Belichtungsfiltern und die automatische Einstellung des Dosierwerkzeugs zur einfachen Optimierung der Lithographie-Anforderungen. Sein fortschrittliches Design macht es zu einem perfekten Kapital für hocheffiziente Photolithographie. NSR 2005 i11D ist eine ideale Lösung für eine Reihe von Branchen, die hochpräzise und leistungsstarke Photomaskierlösungen benötigen. Mit seinem fortschrittlichen Design, zuverlässiger Bedienung und leicht einstellbaren Belichtungseinstellungen ist es die perfekte Wahl für eine Reihe von komplexen, Low-K1-Photomasken-Anwendungen.
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