Gebraucht NIKON NSR 204B #9350967 zu verkaufen

NIKON NSR 204B
Hersteller
NIKON
Modell
NSR 204B
ID: 9350967
Wafergröße: 8"
Scanner, 8", parts machine.
NIKON NSR 204B ist ein Halbleiterlithographiewerkzeug zur Herstellung von integrierten Schaltungen und verwandten Produkten. Es wird verwendet, um Muster auf Wafer aus Material zu übertragen, so dass die Definition der elektronischen Eigenschaften in den integrierten Schaltungen. NIKON NSR-204B basiert auf NIKON NSR-S203B Step and Scan-Geräten. Es ist ein fortgeschrittenes Abbildungssystem, das eine zweidimensionale (2D) Ausrichtlinse und die Beleuchtungseinheit verwendet, um die Maskenmuster auf dem Retikel durch eine optische Maschine abzubilden. Das Instrument ist eine verbesserte Version von NIKON S203B mit verbesserter Auflösung, Ausrichtungsgenauigkeit und Durchsatz. Es hat einen höheren Durchsatz im Vergleich zu NIKON S203B, was eine schnellere Bearbeitungszeit bei der Herstellung integrierter Schaltungen ermöglicht. NSR 204B Tool besteht aus dem Scanner, dem Ausrichtungs- und Beleuchtungskopf (A&I), der Reticle Stage und Reticle Stage und Optik. Der Scanner weist ein übliches optisches Layout auf, bestehend aus einem Retikel, einer Retikelausrichtlinse, einem Retikelpositionsmonitor, einem Wellenlängenweltscanner CRT und einer Projektionslinse. Der Scanner kann mehrere Reticles verarbeiten, so dass mehrere Belichtungen gleichzeitig möglich sind. Der Kopf der Ausrichtung und Beleuchtung (A&I) enthält einen Spiegel, eine Linse und eine Reihe von Lichtquellen, mit denen die Retikelmuster projiziert und beleuchtet werden. Die Linse dient dazu, das Licht in einem bestimmten Muster auf das Retikel zu fokussieren. Der Spiegel kann für bestimmte Beleuchtungswinkel kippen, was die Genauigkeit des Musters gewährleistet. Die Reticle Stage dient zur sicheren Platzierung und genauen Ausrichtung der Retikel auf der Projektionslinse. Die Position der Retikel wird mit einem Laser-Asset überwacht und gesteuert. Die Optik von NSR-204B umfasst eine aberrationskorrigierte Projektionslinse und ein Feldabflachungsprisma. Die Projektionslinse dient dazu, die Retikelmuster auf den Wafer abzubilden. Das Feldabflachungsprisma wird verwendet, um das Feld abzuflachen, um etwaige Aberrationen aus dem Abbildungsprozess zu beseitigen. NIKON NSR 204B kann eine Vielzahl von Wafergrößen handhaben, von 6 Zoll bis 8 Zoll im Durchmesser. Es verfügt auch über eine Tieftemperaturumgebung, die eine überlegene Bildintegrität und Verarbeitungsgeschwindigkeiten ermöglicht. Insgesamt ist NIKON NSR-204B ein hochpräzises Lithographiewerkzeug, das eine Vielzahl von Wafergrößen verarbeiten kann und eine hervorragende Auflösung, Durchsatz und Ausrichtungsgenauigkeit bietet. Es ist eine ideale Wahl für die Herstellung von integrierten Schaltungen und anderen verwandten Komponenten.
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