Gebraucht NIKON NSR 2205 EX12B #9265226 zu verkaufen
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ID: 9265226
Weinlese: 1997
DUV Stepper
Resolution: 280 nm
N.A: 0.55
Exposure light source KrF: Excimer laser (248 nm)
Reduction ratio: 1:5
Exposure field: 22 mm Square to 17.9 mm (H) x 25.2 mm (V)
Alignment accuracy (EGA): 55 nm
Robot arm, P/N: DDCVR-CR1041
Laser head
Alignment systems:
LSA
FIA
CYMER ELS5400 Laser
Lens type: 5EB2
LSA / FIA
Table leveling: AF
Reticle table: 56-6
CYMER EX Laser
Illumination units:
5EB2 IU
CYMER BMU
SHRINC Printed circuit board
RA: 5EB2 RA6
RLIB-ADP: Straight ARM 6
Ceramic wafer holder, 6"
Control rack
Power rack and power supply
LIA
WL3 Type carrier table: Right
Accessories
Wafer loader: Type 3
Pre-alignment 6: Type 3
Wafer loader 6: Type 3
In-line type: Left
1997 vintage.
NIKON NSR 2205 EX12B ist ein hochpräziser, kostengünstiger tiefer ultravioletter (DUV) Wafer-Stepper, der speziell für die Halbleiterlithographie entwickelt wurde. Dieser Stepper bietet eine hochmoderne Auflösung von 0,15 Mikrometern und eine Scangeschwindigkeit von bis zu 2000 Wafern/Stunde. Es kann verwendet werden, um Geräte mit Linienbreiten bis zu 70nm herzustellen, was es zu einer geeigneten Wahl für fortgeschrittene Halbleiteranwendungen macht. Der Stepper ist für eine breite Palette von DUV-Breitband-Lichtquellen konzipiert, einschließlich der ArF Excimer und F 2 Laser, und kann für Produktions- und Entwicklungsanwendungen verwendet werden. NIKON NSR-2205EX12B ist mit einem 13-Zoll-Scanner und einem 10-stufigen, linearen Indexer ausgestattet, wodurch außergewöhnlich präzise Muster mit bis zu acht Belichtungen pro Schicht abgebildet werden können. Außerdem verfügt es über ein Dual-Beam-Scanning-System, das eine gleichzeitige Abbildung im 10X und 15X Modus ermöglicht, sodass der Stepper eine überlegene Ätzauflösung liefern kann. Seine hohe Genauigkeit und geringe Geräuschpegel sorgen für eine genaue Ausrichtung des Substrats. Dieser Stepper ist mit einem sehr zuverlässigen Fehlerinspektionssystem ausgestattet und kann seine Scanparameter automatisch anpassen, um den Durchsatz zu maximieren und die Variabilität von Schuss zu Schuss zu minimieren. Dieser Stepper bietet auch eine Reihe von Umweltvorteilen, einschließlich einer niedrigen Betriebstemperatur, vibrationsfreiem Betrieb und Kompatibilität mit Raumtemperaturfiltern. Darüber hinaus verfügt es über ein optimiertes Beleuchtungssystem mit geringem Stromverbrauch und geringem Geräuschpegel. Dieser Stepper ist sehr kompatibel mit Plasmaerzeugungssystemen mit großer Kapazität und eignet sich daher für die Lithographie mit großer Kapazität. Es unterstützt auch das Abladen von Daten in computergestützte Designsoftware, so dass Benutzer schnell und präzise Änderungen an ihrem Design vornehmen können. All diese Merkmale machen NSR-2205 EX12B zu einer kostengünstigen und zuverlässigen Option für diejenigen, die mit Halbleitern arbeiten. Es ist für langfristige Genauigkeit und Präzision konzipiert, und seine tiefen UV-Bildgebungsfähigkeiten machen es für die fortschrittliche Geräteherstellung geeignet. Dieser Stepper ist eine optimale Wahl für diejenigen, die eine leistungsstarke Lösung für ihre Wafer-Bildgebungsanforderungen suchen.
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