Gebraucht NIKON NSR 2205 EX14C #9209755 zu verkaufen

NIKON NSR 2205 EX14C Wafer Stepper ist ein hochentwickeltes und leistungsstarkes Lithographie-Gerät, das kontinuierlichen Betrieb und Produktivität für Lithographie-Prozesse bietet. NIKON NSR-2205EX14C Wafer Stepper wird verwendet, um Wafer mit einer Auflösung von bis zu 0,280 Mikron zu messen und zu belichten. Es verwendet eine präzise optische Ausrüstung, die von einfallenden optischen Positionen bis zu 24mm sowie bis zu 14mm Belichtung für quadratische Wafer reicht. Der Stepper ist mit dem x2e-Rotationsbelichtungssystem für leicht gekrümmte Wafer sowie der Eureki-Belichtungsautofokuseinheit ausgestattet, die die Tiefe des Wafers misst. Die Maschine ist aus einem ultra-starren Mehrkammerdesign mit mechanischen, optischen und elektrischen Baugruppen für Leistung und Zuverlässigkeit. Seine Kontrollmaschine basiert auf einem robusten Gegengewichtwerkzeug mit der 6-Achsen-Anordnung und den 11-Achsen-Anordnungskontrollsensoren für die genaue Positionierung von Oblaten. NSR-2205 EX14C ist außerdem mit einem Kollimator ausgestattet, der sowohl einen axialen Scan als auch einen transversalen Scan umfasst, um eine exakte Bildgebungsfähigkeit und ein vollständiges Belichtungsmodell zu erreichen. Darüber hinaus ist der Stepper mit einer Hochgeschwindigkeitsbearbeitungsanlage und einer großen Speicherkapazität ausgelegt, um eine hochauflösende Strukturierung zu ermöglichen. NSR-2205EX14C verfügt zudem über eine integrierte Wärmesteuerung mit Heizmodulen und Kühlermodulen zur effizienten Kühlung und gleichmäßigen Temperaturverteilung. Der Stepper ist auch mit einer Emissionsminderungseinheit gebaut, um eine saubere und umweltfreundliche Umgebung zu gewährleisten. Darüber hinaus ist der Stepper mit einer automatischen Schutzbeschichtungsmaschine ausgestattet, die die Wafer vor Beschädigungen bei der Belichtung schützen kann. NSR 2205EX 14C Wafer Stepper ist ein effizienter und zuverlässiger Stepper für alle Lithographie-Anforderungen, die eine hochpräzise Bildgebung erfordern. Diese Maschine ist in der Lage, maximale Leistung aus den neuesten bildgebenden Technologien mit seiner Unterstützung für Auflösungen bis zu 0,280 Mikron, seinem x2e-Rotationsbelichtungswerkzeug für gekrümmte Wafer, seinem Eureki-Belichtungsausrichtungsautofokus, seiner Mehrkammerstruktur und seinem Hochgeschwindigkeitsverarbeitungsmodell zu extrahieren. Diese Maschine bietet viel Benutzerfreundlichkeit, Robustheit und Flexibilität.