Gebraucht NIKON NSR 2205 i11D #293763395 zu verkaufen
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ID: 293763395
Weinlese: 1995
Stepper
Reticle size, 6"
Reticle case, 6"
Reticle library slot: 26
Electric source: NEMA Box
Computer type: Vax station 90
Chamber type: SENDAI S07
Movable microscope: 22 x 20 mm
Extend R-Library slot
Wafer type: Flat
Wafer chuck: 6" (Ceramic)
Wafer loader: Type-2 A1
Chip levelling
Wafer carrier table: Right
Alignment sensor: FIA, LSA
HP 5517B Laser
Rack type: Right
Lamp power: 1.75 kW
Temperature: 23°C
No reticle barcode reader
No reticle SMIF
No signal tower
No in-line
No shrinc
No PPD
1995 vintage.
NIKON NSR 2205 i11D wafer stepper ist ein Präzisions-Lithographie-Instrument für den Einsatz in der Halbleiterbauelementherstellung. Es hat eine Mindestauflösung von 0,28 Mikrometer und eine maximale Belichtungsfläche von 220 mm x 220 mm. NIKON NSR-2205I11D nutzt sein proprietäres ADC (Applied Dose Control) -Autobelichtungsgerät, um unabhängig von den Expositionsbedingungen wiederholbare und genaue Belichtungsergebnisse zu gewährleisten. Zur genauen Mustererfassung und Ausrichtung ist NSR 2205I11D mit einem Doppelretikel-Autofokussystem ausgestattet. Diese robuste Einheit verfügt über einen manuellen und automatischen Suchmodus, der eine schnelle und einfache Erfassung des Zielmusters mit einem kleinen Sichtfeld ermöglicht. Die Schätzung der Ausrichtungsgenauigkeit beträgt 0,1 Mikrometer (3 Sigma). Ausgestattet mit 11-Zoll-Projektionsoptik und NIKON advanced 5X Vibrationsreduziermaschine, NIKON NSR 2205 I 11 D hat eine Projektionsfeld Größe von 2,2 um pro Vergrößerungsschritt. Die Mini-Projektionsoptik ermöglicht höhere Auflösungsmuster über eine größere Fläche mit reduzierter Fokustiefe (DOF). Das Projektionsobjektiv hat einen programmierbaren Zoombereich von 0,2 bis 3,0 und einen Fokusbereich von 0,1 bis 4,2 mm. NSR-2205I11D ist in der Lage, diesen Vergrößerungsbereich unter Verwendung der sogenannten „Lateral-Shift-Fähigkeit“ zu nutzen, so dass dieselbe Maske bei verschiedenen Vergrößerungen verwendet werden kann, ohne dass eine vollständige Drehung des Spannfutters erforderlich ist. Hinsichtlich des Durchsatzes weist NSR 2205 I11 D eine niedrige Spurzeit mit einer Schrittzeit von 0,6 Sekunden und einer Belichtungszeit von 0,2 Sekunden auf. Mit seiner hohen Mustereinheitlichkeit ist NIKON NSR 2205I11D in der Lage, überlegene Produktausbeuten mit weniger Verschmutzungen und Nacharbeiten zu erzielen. Darüber hinaus ermöglicht die erweiterte Ausrichtungs- und Overlay-Funktion eine hohe Produktplatzierungsgenauigkeit und Batch-Replikation. Dadurch können kostspieligere Retikle-Ausrichtungen vermieden werden, was zur Steigerung der Kosteneffizienz beiträgt. Zusammenfassend ist NSR-2205 I11 D Wafer Stepper ein fortschrittliches Lithographie-Tool, das entwickelt wurde, um überlegene Ergebnisse in einer Vielzahl von Produktionsbedingungen zu erzielen. Ausgestattet mit einem kleinen, aber robusten Projektionsobjektiv, einem Doppelretikel-Autofokus und einem fortschrittlichen 5X-Schwingungsreduktionsmodell, ist NSR 2205 I 11 D in der Lage, Auflösung bis zu 0,28 Mikrometer und überlegene Produkterträge mit einer Schrittzeit von 0,6 Sekunden und einer Belichtungszeit von 0,2 Sekunden zu erzeugen. Dies macht es neben seiner ausgezeichneten Ausrichtung und Overlay-Genauigkeit zu einer idealen Wahl für die Geräteherstellung.
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