Gebraucht NIKON NSR 2205 i11D #293831519 zu verkaufen

NIKON NSR 2205 i11D ist eine hochwertige Lithographieanlage, die zur Ausrichtung und Belichtung von Halbleiterchips während der Photolithographie eingesetzt wird. Das System verfügt über eine erweiterte Dunkelkammer für eine optimale Waferbelichtung sowie einen automatischen Ausrichtmechanismus für eine genaue Werkzeugsteuerung. Der Stepper besteht aus einem fortschrittlichen 300mm Scanner, der schnelle Scangeschwindigkeiten, hohe Auflösungen und überlegene Objektivleistung bietet. Es verwendet eine Laserausrichteinheit, die eine hochgenaue Waferausrichtung ermöglicht, auch bei verzerrten Wafern. NIKON NSR-2205I11D ist mit einer hochpräzisen XYZ-Transportmaschine ausgestattet, die eine hochpräzise Ausrichtung sowie eine Echtzeitsteuerung aller Werkzeugfunktionen ermöglicht. Die Waferstufe verfügt über eine verbesserte Wafer-Rotationssteuerung, die sicherstellt, dass der Ausrichtmechanismus immer in perfekter Harmonie mit dem Wafer ist. Es verfügt auch über ein Dual-Zone-Overlay-Modell, das eine hochpräzise Belichtung und Ausrichtung ermöglicht. Darüber hinaus verfügt der Stepper über mehrere Sicherheitsmerkmale, die eine optimale Sicherheit während des Betriebs gewährleisten. NSR 2205I11D verfügt auch über eine breite Palette von Wafer-Level-Funktionen, die für anspruchsvolle Makroprogrammierung verwendet werden können. Es verfügt über eine hochpräzise Fokuskontrollausrüstung und ein fortschrittliches Auflösungssteuerungssystem zur Stabilisierung des Waferfokus und zur Korrektur von Verzerrungen, Neigungen und anderen Aberrationen. Der Stepper ist auch in der Lage, Selbstdiagnose und schnelle Erholung von Strahlen und anderen unvorhergesehenen Ereignissen. Ebenfalls in NIKON NSR 2205 I11 D integriert ist eine Multipositionsbelichtungseinheit, die bis zu fünf Schichten gleichzeitig handhaben kann. Es verfügt über integrierte Funktionen zur Verringerung der Partikelabscheidung und Minimierung von Hintergrundgeräuschen. Darüber hinaus ist die Maschine sowohl mit Widerständen auf Ölbasis als auch mit Wasserbasis kompatibel, was eine größere Flexibilität bei der Auswahl einer Fotomaske ermöglicht. NSR 2205 I11 D ist für die einfache Integration in bestehende Photolithographieverfahren konzipiert. Die kompakte Größe und der geringere Platzbedarf machen die Installation in jedem Wafer-Verarbeitungslabor einfach. Darüber hinaus machen der effiziente Stromverbrauch, fortschrittliche Kühlsysteme und eine hervorragende Objektivleistung den Betrieb kostengünstig, während seine hochpräzise Steuerung es extrem zuverlässig macht. Dank seiner fortschrittlichen Eigenschaften ist es eine gute Wahl für Lithografen, die von ihren Systemen höchste Genauigkeit und Leistung verlangen.