Gebraucht NIKON NSR 2205 i11D #9174897 zu verkaufen
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ID: 9174897
Wafergröße: 2"- 4"
Stepper, 2"-4"
Specification:
Expose area:
28.28 mm Φ
20.0 * 20.0
19.61 * 20.40
Resolution: 0.5
DOF: Within +/- 2.0µm
Lens distortion:
Min X.-0.063µm Y:-0.089µm
Max X:0.028µm Y:0.068µm
Illumination uniformity conv (ID1): 1.495%
Integrated exp controller: 0.30%
Wafer holder flatness: 1.02µm
Leveling:
X -1.058sec Y: -0.016sec
R 0.736sec P: -0.759sec
Auto focus stability: Within +/- 0.4µm
Reticle blind:
XL:0.6 mm XR:0.65 mm
YL:0.5 mm YU:0.55 mm
Array orthogonality: 0.013 Sec
Stepping accuracy(STEP): X:0.082/*n Y: 0.055µm (3)σ
Reticle rotation(ABS/Rep): 0.003µm
Overlay accuracy: Mean +3σ<0.18µm
Defocus rate < 6.0%
Wafer load type: Type ll
Reticle size: 6"
Wafer type: Flat
Chuck size: 2"- 4"
Currently installed.
NIKON NSR 2205 i11D ist eine hochentwickelte molekulare Schrittausrüstung für die Herstellung von Halbleiterbauelementen. Diese 5. Generation von NIKON Wafer Steppern ist in der Lage, minimale Bildgrößen von 25 nm zu erreichen. Es bietet eine umfassende Palette von Hochleistungsfähigkeiten, die es ermöglicht, die Anforderungen der neuesten Nanofabrikationstechniken zu erfüllen. Das System bietet eine überlegene optische Auflösung von 0,31 Superauflösung und 0,8 nm minimale Overlay-Genauigkeit. Es ist mit einer Dualmodus-Feldschalteinheit ausgestattet, die es ermöglicht, schnellere Belichtungszeiten bei optimaler Auflösung zu erzielen. Dies wird durch NIKON i-Tone field enhancement imaging technology erreicht. Die Maschine bietet eine flexible Bildverarbeitungsplattform mit einer Reihe von Belichtungsmodi, darunter Einzelmodus, Kontaktmodus und tiefes UV. Darüber hinaus unterstützt es verschiedene hochauflösende DUV-Objektive, einschließlich solcher mit numerischen Aperturwerten (NA) bis zu 0,135. Dies ermöglicht eine hochpräzise Abbildung von Strukturen, die Nanometerabmessungen aufweisen können. Die Sub-10nm Mustersteuerung des Werkzeugs bietet eine präzise Musteroptimierung. Dies wird durch seine proprietäre Wavefront Control-Technologie erreicht, die verwendet wird, um den Lichtstrahl auf Nanometerebene zu formen. Dies verbessert die Genauigkeit und Fähigkeiten von NIKON NSR-2205I11D bei der Herstellung von Submikrongeräten. NSR 2205I11D bietet eine leistungsstarke LPG-Stufe (Low Particle Generating). Diese Ressource minimiert die Partikelkontamination von Wafern während der Expositions- oder Ausrichtungsaktivitäten und trägt zur Verbesserung der Geräteausbeute und zur Verlängerung der Lebensdauer kritischer Komponenten bei. Das Modell verfügt auch über NIKON einzigartige Field Imaging Equipment (FIS) Technologie, die es erlaubt, genaue dreidimensionale Bilder einer Oberfläche zu erstellen. Dies wird in Lithographieanwendungen verwendet, um die Genauigkeit und Qualität des Endprodukts zu verbessern. Insgesamt ist NIKON NSR 2205 I 11 D ein extrem leistungsstarker, fortschrittlicher Wafer-Stepper. Es bietet hervorragende bildgebende Funktionen, präzise Musterkontrolle und minimale Partikelerzeugung. Seine Fähigkeiten machen es zu einem wertvollen Werkzeug für die Halbleiterherstellung und bieten präzisen Musterdruck, zuverlässige Ausrichtung und genaue Abbildung von nanoskaligen Strukturen.
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