Gebraucht NIKON NSR 2205 i11D #9236906 zu verkaufen

Hersteller
NIKON
Modell
NSR 2205 i11D
ID: 9236906
Wafergröße: 6"
Stepper, 6" Reticle, 6" (2) Carriers Illumination: SHRINC3 Lamp illumination: Average power: 556.099 mW / cm² Uniformity: 1.126% Lens distortion: ±0.050 µm Maximum: X: 0.032 Y: 0.046 Minimum: X: -0.057 Y: -0.045 Field inclination: Within: 0.35 µm UL-LR, UR-LL: 0.2 µm AST: 0.25 µm Maximum: 0.384 µm Curvature: 0.099 µm UL-LR: -0.160 µm UR-LL: -0.010 µm.
NIKON NSR 2205 i11D ist ein fortschrittlicher Wafer-Stepper für Gerätehersteller, die ultimative Genauigkeit und Durchsatz in der Produktionsumgebung benötigen. Dieser Wafer-Stepper nutzt Lichtquellentechnologie und Präzisionsoptik, um die Belichtung von Maskenmustern genau zu steuern. Es kann bis zu 4,5 Zoll Wafer handhaben und hat sowohl einen hochauflösenden Scan-Modus als auch einen ultrahohen Durchsatz' High-Speed-Scan '-Modus. NIKON NSR-2205I11D Wafer Stepper verwendet eine Vollfeldbeleuchtung Ausrüstung, bekannt als „NSR Q-Illumination“, die in der Lage ist, sehr gleichmäßige Lichtstrahlung entlang der X- und Y-Achse mit einer stabilen Intensität über das gesamte Feld zu liefern. Dieses System ist in der Lage, für alle Maskenmuster unabhängig von der Mustergröße eine gleichmäßige Belichtung über den gesamten Wafer zu erzielen. Die Beleuchtungseinheit auf diesem Modell bietet mehrere Ebenen der Bestrahlungsstärke und Brennpunkte, die erheblich hilft, die lithographische Leistung über eine breite Palette von Mustergrößen von 0,5 bis 10 µm zu verbessern. NSR 2205I11D nutzt auch einen Phasenschieber zur weiteren Feinabstimmung der Beleuchtung und kann sogar Kerben in schlecht geformten Teilen von Maskenmustern reduzieren oder abtragen. Die Verwendung dieses Phasenschiebers ermöglicht mehr Flexibilität bei der Steuerung der Belichtung von Mustern, wodurch eine bessere und gleichmäßigere Feinfunktionsauflösung ermöglicht wird. Der Scan-Modus dieses Modells bietet eine Auswahl an Auflösungen, wobei die höhere Auflösung in der Lage ist, eine lineare Auflösung von 7,5% zu erreichen, die Klarheit und Präzision für den Lithographieprozess bietet. Der Hochgeschwindigkeits-Scan-Modus eignet sich perfekt für Hochdurchsatzprozesse, da er bis zu 30 Wafer pro Stunde mit einer Genauigkeit von 10% linearer Auflösung scannen kann. Die Größe dieses Wafer-Steppers beschränkt sich nicht nur auf seine Beleuchtungsmaschine, sondern verfügt auch über eine automatische Probenstufe, die das Be- und Entladen von Wafern effektiv und mit höchster Präzision ermöglicht. Es verfügt auch über eine schwingungsarme Auto-Fokus-Stufe, die eine präzise und genaue Detektion der Probenoberfläche für optimale Belichtungsergebnisse ermöglicht. Für diejenigen, die einen genauen und dennoch effizienten Wafer Stepper benötigen, ist NIKON NSR-2205 I11D die perfekte Wahl. Es ist fortschrittliche Optik, Beleuchtung und Scan-Modi bieten präzise, einheitliche und Hochgeschwindigkeitsleistung, die für Gerätehersteller in der Produktionsumgebung von unschätzbarem Wert ist.
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