Gebraucht NIKON NSR 2205 i11D #9379192 zu verkaufen

NIKON NSR 2205 i11D
Hersteller
NIKON
Modell
NSR 2205 i11D
ID: 9379192
Stepper.
NIKON NSR 2205 i11D ist ein hochmoderner Wafer-Stepper für die Photolithographie. Das Gerät ist komfortabel konfiguriert, um Maskierungs- und Ätzvorgänge mit einem Schritt-und-Wiederholungsprozess auszuführen. Der Stepper ist in der Lage, sowohl 200mm als auch 300mm Substrate zu handhaben, was ihn für eine Vielzahl von Anwendungen extrem vielseitig macht. NIKON NSR-2205I11D nutzt fortschrittliche Optik, einschließlich einer hohen numerischen Apertur, um eine überlegene Auflösung zu bieten. Das System nutzt auch eine proprietäre Ausrichteinheit zur optimierten Beleuchtungswiederholbarkeit. Es gibt eine breite Palette von numerischen Blendenoptionen, die eine genaue Belichtung von winzigen Funktionen ermöglichen. Die Maschine kann Belichtungen von 0,30 bis 0,75 μ m bewältigen. NSR 2205I11D verfügt über ein automatisiertes Bühnenwerkzeug, mit dem der Bediener bis zu 25 verschiedene Positionen programmieren kann. Auf diese Weise kann der Bediener die Ausrichtung des Substrats mit Hilfe der Funktionen „Vektoranpassung“ oder „automatische Messung“ schnell und genau anpassen. Darüber hinaus verfügt der Stepper über eine zweidimensionale Bewegungssteuerung für hohe Genauigkeit und Wiederholbarkeit. Die Optik von NSR 2205 i11D besteht aus einer Reihe aktiver Komponenten wie Collimators, Prisms, Pentagonal Mirrors und Cylindrical Lens Model (CLS). Alle diese Elemente wurden entwickelt, um die Leistung zu optimieren und eine außergewöhnliche Bildqualität zu bieten. Mit diesen Komponenten kann das Gerät eine Auflösung von bis zu 0,27 μ m erzeugen. NSR 2205 I 11 D ist ein robustes System, entwickelt mit fortschrittlicher Technologie und gebaut mit hochwertigen Komponenten. Das Gerät ist sicher und flexibel, mit einer Vielzahl von Prozessanwendungen zur Verfügung. Mit seiner außergewöhnlichen Vielseitigkeit, dynamischen Belichtungssteuerung und hoher Auflösung ist dieser Wafer Stepper perfekt für eine breite Palette von Photolithographie-Anforderungen.
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