Gebraucht NIKON NSR 2205 i12 #293606914 zu verkaufen

NIKON NSR 2205 i12 ist ein hochpräziser 12-Zoll-Wafer-Stepper, der Anwendern höchste optische Lithographieleistung bietet. Dieses Modell wurde speziell für die Herstellung von Halbleiterbauelementen mit seiner UV-basierten i-line Lichtquelle und einer Feldgröße von bis zu 8 „x 10“ entwickelt. Die 2.205 i12 zeigen eine, Hochleistungshopräzisionsbildaufbereitungsausrüstung dass Einfluss-H-APO (Hohe Genauigkeitsparallele Optisch) Technologie, um schnelle und zuverlässige Anordnungsleistung zu liefern. Damit kann die Maschine Maskenmuster mit einer Wiederholbarkeit von bis zu 0,2 Mikron präzise auf der Waferoberfläche positionieren. Dieser Wafer-Stepper verfügt über spezialisierte Beleuchtungsfähigkeiten, einschließlich Optik, die eine obere und untere Beleuchtung in einer einzigen Belichtung bietet, sowie schrittweise Beleuchtung, um den Bildkontrast anzupassen und die kritische Dimensionsvariation zu reduzieren. Dank seiner niedrigen elektromagnetischen Störungen und Vibrationen verfügt es auch über eine stabile, zuverlässige Bildgebung während der gesamten Ausrichtungs- und Abtastoperationen. Dieser Wafer-Stepper verwendet eine fortschrittliche Auto-Adaptionsfähigkeit, um die helle/dunkle Phase und die Kontrastbilanz anzupassen, um optimale Bildergebnisse zu erzielen. Es verwendet auch verbesserte M-EMRS (Multi-Energy Mask Reference System) Technologie, die den bildgebenden Prozess mit stabileren Belichtungsbedingungen verbessert. NSR 2205 i12 hat auch eine breite Reihe von erhöhten Einheitsfunktionen, einschließlich der Autodosiskontrolle und eines fortgeschrittenen BASTELRAUM-Versionsmoduls, der beide Hilfe, den Durchfluss von Halbleitergerätfertigungsverfahren zu verbessern. Darüber hinaus verfügt es über eine brandneue Kopf-PI-Schutzmaschine, die das Werkstück sicher hält, indem unbeabsichtigte Schäden an empfindlichen Flächenkanten verhindert werden. Insgesamt ist NIKON NSR 2205 i12 ein sehr vielseitiger und zuverlässiger Wafer-Stepper, der überlegene Leistung, einfache Bedienung und verbesserten Prozessdurchsatz bietet. Es wurde entwickelt, um Anwendern eine optimale Lithographieleistung für eine breite Palette fortschrittlicher Fertigungsprozesse für Halbleiterbauelemente zu bieten.