Gebraucht NIKON NSR 2205 i12C #293752261 zu verkaufen
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ID: 293752261
Wafergröße: 6"
Weinlese: 1997
Stepper, 6"
Resolution (NA=0.57): Within 0.45 µm
DOF: 0.8 µm
Lens Distortion (incl. magnification error): Within ±55 nm
Lens Distortion Stability: Within ±20 nm
Focus Stability: Within ±0.25 µm
Open Frame (Max. Exposure Area): 22.0 mm × 22.0 mm (17.96–25.20)
Auto Focus Calibration Repeatability: 3σ ≤ 100 nm
Auto Focus Offset Range: Within ±20 µm
Lamp Power: 700 mW/cm²
Lamp Uniformity: Within 1.5 %
Dose Control Accuracy (Integrated Exposure Stability): Within ±1.0 %
Reticle Blind: +0.4 mm ~ +0.8 mm
Reticle Alignment Accuracy: Absolute value within ±0.02 µm of target value, Repeatability within 0.015 µm
LSA Overlay Accuracy: |X| + 3σ ≤ 0.065 µm
FIA Overlay Accuracy: |X| + 3σ ≤ 0.065 µm
Stepping Accuracy: ±0.04 µm (3σ)
Orthogonality: Within ±0.1 sec
Wafer Stage Flatness: Within 2.0 µm / 200 mm
Chip Leveling: Within 4.8 µrad / 22 mm
Wafer Prealignment Repeatability: 3σ within 15 µm
Self Measurement Program (Option): Automatic
Temperature: 23°C
Chamber Type: S20
NA Variable System
Reticle Size: 6" (Normal)
Reticle Microscope: Fix
Max Field Size: 22 mm
PPD
Reticle Barcode Reader
Reticle Loader: Standard (13 Slot)
Reticle Case: 6" Standard
Pre Alignment
Wafer Loader: Type2
Chip Leveling
Wafer Carrier Table: Left, Right
Alignment Sensor: LSA, FIA
Rack Type: Normal (Right)
Body‑OP Ruck Cable: 3 m (Normal)
No Wafer Edge Exposure
Lamp Power: 2 kW (Normal)
Illumination: SHRINC3
1997 vintage.
NIKON NSR 2205 i12C Wafer Stepper ist eine vollautomatische, hochpräzise Lithographie-Ausrüstung, die zur Herstellung von Photomasken und Retikeln entwickelt wurde. Das System ist mit einer 12-Zoll-Kamera (VSC) und einem 12-Zoll-Blickfeld (FOV) ausgestattet, die eine hervorragende Bildqualität und einen hervorragenden Durchsatz gewährleistet. Seine Echtzeit-Defokus-Steuereinheit (RDC) sorgt für Exzellenz in der Wafer-Bildgebung. Es wird von einem intelligenten i-Serie-Controller (i12C) angetrieben, der High-End-Leistung und Betriebseffizienz bietet. Es bietet auch sofortigen Zugriff auf Funktionen und Einstellungen und vereinfacht die manuelle Dateneingabe. Die Softwarefunktionen, wie der intelligente Spaltwähler (ISS), erhöhen die Betriebseffizienz und Zuverlässigkeit. NIKON NSR-2205I12C ist in der Lage, bei hohen Geschwindigkeiten vorzujustieren und zu treten und gleichzeitig eine genaue Belichtungsgleichförmigkeit zu erzielen. Es ist so programmiert, dass eine einheitliche Belichtung mit Target Uniformity Control (TUC) erreicht wird. Der Wafer Stepper bietet zudem eine hervorragende Temperaturstabilität und einen reibungslosen Betrieb bei der Steuerung von thermischen Drifteffekten. NSR 2205 i12C kann Wafer mit bis zu 300 mm (12 Zoll) Belichtungsbereich belichten, die heutigen anspruchsvollsten Halbleiterverarbeitungsanforderungen gerecht zu werden. Es kann eine Auflösung von einem halben Mikron bei einer Wellenlänge von 785 nm erreichen, wodurch maximale Treue und Unterstützung für die fortschrittlichsten 10nm-Prozessknoten gewährleistet werden. Die proprietäre Six-Axis Motor Machine (SAM) von NSR-2205I12C bietet optimierte vertikale Scanfunktionen für Musterüberlagerung und Belichtungsoptimierung. Die Funktion Automatische Werkzeugwartung (ASM) stellt sicher, dass Benutzer langfristig einen zuverlässigen Feldbetrieb erhalten. NIKON NSR 2205 i12C Wafer Stepper ist für schnellen, effizienten und zuverlässigen Imaging-Workflow konzipiert. Seine High-End-Optik und ausgefeilte Softwareplattformen machen ihn zu einer idealen Wahl für anspruchsvolle Halbleiterbildgebungsprozesse. Seine ausgeklügelte Technologie und seine fortschrittlichen Funktionen bieten Anwendern die höchstmögliche Qualität der Wafer-Bildgebung und Betriebssicherheit.
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