Gebraucht NIKON NSR 2205 i14E2 #293817939 zu verkaufen

NIKON NSR 1125 i14E2 Wafer Stepper ist ein chromloser, Antireflexbeschichtung (ARC) resistenter, fortschrittlicher Wafer-Stepper, der für VLSI, Flachbildschirm und MEMS-Anwendungen geeignet ist. Es verfügt über eine große Musterfläche von 6-Zoll-Durchmesser und unterstützt eine hohe Bildüberlagerungsgenauigkeit von bis zu 15 nm. Mit einer Stufen- und Wiederholrate von bis zu 1,2 Millionen Wafern pro Stunde, einer hohen geometrischen Mustergenauigkeit von 5 Mikrometern und einer Feldgröße von bis zu 70 x 70 mm bietet das NSR 1125 i14E2 eine hervorragende Kosteneffizienz und Produktivität für die Mittelserienproduktion. Darüber hinaus bieten die Submikronausrichtsysteme innovative Lösungen für viele Produktionsanforderungen. NIKON NSR 1125 i14E2 Wafer Stepper beinhaltet eine Vollfeld-Zielausrüstung, die die Bedienung vereinfacht und die Genauigkeit der Musterausrichtung verbessert. Es verfügt über eine extrem hohe Genauigkeit von 0,1 mm und kann extrem kleine Partikelfehler anhand von Bildinformationen erkennen. Systemfunktionen wie Auto Pattern Matching, Auto Top Exposure Level und Auto Zoom verbessern die Prozessflexibilität und verbessern die Produktivität. Dieser Stepper ist auch mit einem linearen Targeting-Verfahren mit geringer Belastung ausgestattet, das Linsenverformung und Musterverzerrung minimiert, sowie mit einem Rührverfahren mit geringer Schwingung, das optische Fehler durch Mischen von flüssigem Helium in der optischen Einheit beseitigt. NIKON NSR 1125 i14E2 Wafer Stepper ist entworfen, um Hochvakuum, Hochtemperatur und verschiedene Arten von Gasexpositionsbedingungen zu widerstehen, so dass es für viele Arten von Produktionsanforderungen wie Vakuumtechnik, Markierung und Trocknung geeignet ist. Darüber hinaus verfügt die Maschine über ein Zweikanal-Bühnendesign, das die Wafer-Ausschussrate stark reduziert und die Überlagerungsgenauigkeit verbessert. Sein fortschrittliches Wafer-Handling-Tool minimiert die Waferbewegung und verbessert gleichzeitig die Batch-Produktivität. Darüber hinaus sorgt eine Umweltschutzanlage mit Zwangsluftkühlung für die Beseitigung schädlicher Partikel. NIKON NSR 1125 i14E2 Wafer Stepper wird von NUMDBS gesteuert, NIKON proprietäre optische Design-Software-Paket. NUMDBS berechnet schnell Beleuchtungs- und Mustereinstellungen und überwacht die Ausrichtung mit der digitalen Photomask (dPM) -Schicht. Diese leistungsstarke Software kann auch Layoutdaten für eine verbesserte Prozessleistung optimieren. Die Software dieses Steppers beinhaltet eine Vielzahl von Sicherheitsmerkmalen wie automatisches Strahlaustasten und dynamische Belichtungssteuerung für maximale Sicherheit. Darüber hinaus ermöglicht ein praktisches Maskenumschaltmodell auch reibungslose Prozessumschaltungen. Abschließend bietet NIKON NSR 1125 i14E2 Wafer Stepper eine effektive und kosteneffiziente Wafer-Produktionslösung, die den heutigen anspruchsvollen Anforderungen an die Halbleiterproduktion gerecht wird. Zu den Merkmalen gehören eine Full-Field-Zielausrüstung, eine hohe Bildüberlagerungsgenauigkeit, ein Umweltkontrollsystem und eine fortschrittliche Wafer-Handhabungseinheit, die alle entwickelt wurden, um Benutzern eine zuverlässige und genaue Wafer-Produktionslösung zu bieten.