Gebraucht NIKON NSR 2205 i14E2 #9210465 zu verkaufen

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Hersteller
NIKON
Modell
NSR 2205 i14E2
ID: 9210465
Wafergröße: 8"
Weinlese: 2001
Stepper, 8" Magnification: 1/5 Reduction Light source: i-Line (365nm) Resolution: 0.35um Variable Lens NA: 0.50~0.63 Variable Exposure filed size: 22mq (Up to 17.9H by 25.2V) Control: Bellows unit Lens adjust: Micrometer / PIEZO / Washer Lamp: 2.5kW Hg PC System hardware: Type: DMCC UPS: No Reticle size: 6" Reticle microscope: Fixed Alignment sensor: LSA FIA LIA: No TTLFC2 Illumination system: SHRINC4 Type Interferometer system: Interferometer type: 5517C Wafer stage Reticle stage Multi focus system Leveling system: Table Wafer loader: Type3 OF Type (2) Wafer cassettes Left in-line wafer (DNS) Wafer pre-align type: NC PRE2 Wafer edge exposure: No Reticle loader: Normal (3) Libraries / (30) Slots Barder reader Particle checker: (PPD3) Control rack: Type: Normal (Right) Cable length: Normal Signal tower: (4) Colors Chamber: ASHAHI N4A-C Double NEMA (CVCF) BATC / CATC / LLTC: 23.0 / 23.0 / 23.0 ° Missing parts: ALG A-504 PCB ALG A-505 PCB ALG A-506 PCB LLTC TEMP Sensor WL Robort arm WS X Linear AMP Piezo driver (A3, A4 PCB) Electrical power: 208V, 60Hz, 3 phase 2001 vintage.
NIKON NSR 2205 i14E2 ist ein Spitzen-Wafer-Stepper, der entwickelt wurde, um hochgenaue und zuverlässige Leistung für hochvolumige Geräteherstellungsprozesse zu bieten. Das Gerät bietet beispiellose Auflösungen, überlegene Leistung und vielseitige Funktionen für Lithographie- und Wiederholungsanwendungen. NIKON NSR-2205I14E2 bietet eine breite Palette von Funktionen, um eine optimale Geräteherstellungsleistung zu gewährleisten. Es ist mit einem leistungsfähigen NSR-iF2 Lithographiesystem für fortschrittliche Prozesse wie Überätzen und Trockenätzen ausgestattet. Das Gerät ist mit einer fortschrittlichen Bildverarbeitungsmaschine ausgestattet, die zweidimensionale und dreidimensionale Ausrichtungsgenauigkeit bietet. Es verfügt auch über eine Reihe von fortschrittlichen Technologien wie einen vertikalen Schaltmechanismus und eine hochpräzise Laser-Auto-Level-Maschine, um eine genaue Positionierung von Photomasken und Wafern zu gewährleisten. Das Werkzeug ist in der Lage, Geräte mit einer Präzision von ± 1nm herzustellen und bietet ein einheitliches Bild - auch über großflächige Geräte hinweg. Es ist so konzipiert, dass es mit einer Vielzahl von Sprachen und Substraten wie amorphem Silizium, kristallinem Silizium, Germanium und Galliumarsenid kompatibel ist. Die Anlage ist in der Lage, großflächige Geräte bis zu einer maximalen Größe von 10.000 mm ² zu verarbeiten. Es bietet eine erweiterte Fokustiefe, die ein tieferes Eindringen in Substratschichten ermöglicht und eine größere Flexibilität für die Prozesskonvergenz bietet. Das Modell ist auch mit einer Autofokus-Ausrüstung ausgestattet, die die Fokusposition schnell und einfach anpasst, um eine überlegene Bildqualität bei jeder Belichtung zu gewährleisten. Das System verfügt über eine intuitive Benutzeroberfläche mit dedizierten Menüs für Prozesseinstellungen, Waferinformationen und Einheitendiagnosen. Es bietet volle Maschinensteuerung mit Echtzeit-Überwachung und Steuerung der optischen und Substratausrichtungssysteme. Die benutzerfreundliche Oberfläche ermöglicht es dem Benutzer auch, Parameter einfach zu ändern, Belichtungsparameter zu ändern und mehrere Rezepte für maximale Flexibilität und Effizienz zu speichern. NSR-2205 I14E2 verfügt über ein beeindruckendes Industriedesign, das überlegene Zuverlässigkeit und Genauigkeit in einer Vielzahl von Produktionsumgebungen bietet. Es verfügt über ein integriertes Feuchte- und Vibrationsschutzwerkzeug, das die Auswirkungen von Umweltveränderungen auf die Vermögensleistung reduziert. Das Modell verfügt zudem über eine wartungsarme und einfache Kalibrierung mit einer hochpräzisen momentanen Kalibrierausrüstung und selbstdiagnostischen Funktionen für einen störungsfreien Betrieb. NSR 2205I 14E2 ist ein leistungsstarker, zuverlässiger und präziser Wafer-Stepper, der eine unvergleichliche Leistung in den anspruchsvollsten Geräteherstellungsprozessen liefert.
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