Gebraucht NIKON NSR 2205 i14E2 #9210465 zu verkaufen
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Verkauft
ID: 9210465
Wafergröße: 8"
Weinlese: 2001
Stepper, 8"
Magnification: 1/5 Reduction
Light source: i-Line (365nm)
Resolution: 0.35um
Variable Lens NA: 0.50~0.63 Variable
Exposure filed size: 22mq (Up to 17.9H by 25.2V)
Control: Bellows unit
Lens adjust: Micrometer / PIEZO / Washer
Lamp: 2.5kW Hg
PC System hardware:
Type: DMCC
UPS: No
Reticle size: 6"
Reticle microscope: Fixed
Alignment sensor:
LSA
FIA
LIA: No
TTLFC2
Illumination system: SHRINC4 Type
Interferometer system:
Interferometer type: 5517C
Wafer stage
Reticle stage
Multi focus system
Leveling system: Table
Wafer loader: Type3
OF Type
(2) Wafer cassettes
Left in-line wafer (DNS)
Wafer pre-align type: NC PRE2
Wafer edge exposure: No
Reticle loader: Normal
(3) Libraries / (30) Slots
Barder reader
Particle checker: (PPD3)
Control rack:
Type: Normal (Right)
Cable length: Normal
Signal tower: (4) Colors
Chamber:
ASHAHI N4A-C Double NEMA (CVCF)
BATC / CATC / LLTC: 23.0 / 23.0 / 23.0 °
Missing parts:
ALG A-504 PCB
ALG A-505 PCB
ALG A-506 PCB
LLTC TEMP Sensor
WL Robort arm
WS X Linear AMP
Piezo driver (A3, A4 PCB)
Electrical power: 208V, 60Hz, 3 phase
2001 vintage.
NIKON NSR 2205 i14E2 ist ein Spitzen-Wafer-Stepper, der entwickelt wurde, um hochgenaue und zuverlässige Leistung für hochvolumige Geräteherstellungsprozesse zu bieten. Das Gerät bietet beispiellose Auflösungen, überlegene Leistung und vielseitige Funktionen für Lithographie- und Wiederholungsanwendungen. NIKON NSR-2205I14E2 bietet eine breite Palette von Funktionen, um eine optimale Geräteherstellungsleistung zu gewährleisten. Es ist mit einem leistungsfähigen NSR-iF2 Lithographiesystem für fortschrittliche Prozesse wie Überätzen und Trockenätzen ausgestattet. Das Gerät ist mit einer fortschrittlichen Bildverarbeitungsmaschine ausgestattet, die zweidimensionale und dreidimensionale Ausrichtungsgenauigkeit bietet. Es verfügt auch über eine Reihe von fortschrittlichen Technologien wie einen vertikalen Schaltmechanismus und eine hochpräzise Laser-Auto-Level-Maschine, um eine genaue Positionierung von Photomasken und Wafern zu gewährleisten. Das Werkzeug ist in der Lage, Geräte mit einer Präzision von ± 1nm herzustellen und bietet ein einheitliches Bild - auch über großflächige Geräte hinweg. Es ist so konzipiert, dass es mit einer Vielzahl von Sprachen und Substraten wie amorphem Silizium, kristallinem Silizium, Germanium und Galliumarsenid kompatibel ist. Die Anlage ist in der Lage, großflächige Geräte bis zu einer maximalen Größe von 10.000 mm ² zu verarbeiten. Es bietet eine erweiterte Fokustiefe, die ein tieferes Eindringen in Substratschichten ermöglicht und eine größere Flexibilität für die Prozesskonvergenz bietet. Das Modell ist auch mit einer Autofokus-Ausrüstung ausgestattet, die die Fokusposition schnell und einfach anpasst, um eine überlegene Bildqualität bei jeder Belichtung zu gewährleisten. Das System verfügt über eine intuitive Benutzeroberfläche mit dedizierten Menüs für Prozesseinstellungen, Waferinformationen und Einheitendiagnosen. Es bietet volle Maschinensteuerung mit Echtzeit-Überwachung und Steuerung der optischen und Substratausrichtungssysteme. Die benutzerfreundliche Oberfläche ermöglicht es dem Benutzer auch, Parameter einfach zu ändern, Belichtungsparameter zu ändern und mehrere Rezepte für maximale Flexibilität und Effizienz zu speichern. NSR-2205 I14E2 verfügt über ein beeindruckendes Industriedesign, das überlegene Zuverlässigkeit und Genauigkeit in einer Vielzahl von Produktionsumgebungen bietet. Es verfügt über ein integriertes Feuchte- und Vibrationsschutzwerkzeug, das die Auswirkungen von Umweltveränderungen auf die Vermögensleistung reduziert. Das Modell verfügt zudem über eine wartungsarme und einfache Kalibrierung mit einer hochpräzisen momentanen Kalibrierausrüstung und selbstdiagnostischen Funktionen für einen störungsfreien Betrieb. NSR 2205I 14E2 ist ein leistungsstarker, zuverlässiger und präziser Wafer-Stepper, der eine unvergleichliche Leistung in den anspruchsvollsten Geräteherstellungsprozessen liefert.
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