Gebraucht NIKON NSR 2205 iL1 #293808780 zu verkaufen
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ID: 293808780
Wafergröße: 8"
I-Line stepper, 8"
Material: GaN on Silicon / Silicon
Wafer OF Type: Notch
Wafer carrier: Open cassette
Temperature: 23°C
TEL / TOKYO ELECTRON ACT 8 Coater / Developer system
Wafer holder type: Narrow pitch
Thick / Thin wafer
Reticle size: 6"
Reticle library slot: 26
Reticle barcode reader
UPS
Signal Tower
Resolution:
Conventional: 0.50 μm
1/2 Annular: 0.35 μm
Lens distortion: ≤±50 nm
Magnification control accuracy: ≤±20 nm
Maximum exposure area: 22.0 mm x 22.0 mm
Reticle blind setting accuracy: +0.4 mm to +0.8 mm
Exposure power: ≥700 mW/cm²
Reticle rotation: ≤20 nm
Array orthogonality: ≤±0.1 sec
No In-line
No IR Alignment
No PPD
Power supply: 200 VAC, 50 Hz.
NIKON NSR 2205 iL1 wafer stepper ist ein modernes Lithographiewerkzeug für die Halbleiterherstellung. Mit einem starken Schwerpunkt auf Präzision und Durchsatz ist diese Ausrüstung ideal für Serienumgebungen geeignet, in denen die Nachfrage nach fortschrittlichen Technologieknoten rasch steigt. NSR 2205 iL1 kombiniert modernste Technologie mit innovativen Funktionen, um außergewöhnliche bildgebende Leistung und Prozesskontrolle zu bieten. Kernstück der NIKON NSR 2205 iL1 ist das fortschrittliche Linsensystem, das für hochauflösende Musterungen auf Wafern bis 300mm Größe optimiert ist. Die Objektiveinheit verfügt über ein ausgeklügeltes Multi-Element-Design, das optische Aberrationen minimiert und die Bildqualität über das gesamte Sichtfeld maximiert. Mit einer numerischen Öffnung von 1,35 ist die Maschine in der Lage, Sub-50nm-Funktionen mit ausgezeichneter Treue aufzulösen, wodurch sie für die anspruchsvollsten Lithographieanwendungen geeignet ist. NSR 2205 iL1 ist mit einem hochpräzisen Stufenwerkzeug ausgestattet, das eine präzise Positionierung und Ausrichtung des Wafers während des Belichtungsprozesses ermöglicht. Das Stage Asset verfügt über fortschrittliche Bewegungssteuerungsalgorithmen, die Vibrationen minimieren und einen stabilen Betrieb auch bei hohen Geschwindigkeiten gewährleisten. Dieses Maß an Präzision ist unerlässlich, um eine enge Überlagerung und kritische Dimensionskontrolle zu erreichen, die für die Erfüllung der hohen Anforderungen moderner Halbleiterprozesse entscheidend sind. Eines der Hauptmerkmale der NIKON NSR 2205 iL1 ist die erweiterte Ausrichtungs- und Fokussteuerung. Das Modell verwendet eine Kombination aus Laser-Interferometrie und Phasendetektionstechniken, um die Genauigkeit der Submikron-Ausrichtung und die Fokuskontrolle zu erreichen und sicherzustellen, dass das Muster korrekt auf der Waferoberfläche mit optimaler Fokustiefe positioniert wird. Dieser Regelungsgrad ist wesentlich für die Erzielung hoher Mustertreue und Gleichmäßigkeit über den gesamten Wafer, auch bei Vorhandensein von Prozessvariationen. NSR 2205 iL1 verfügt auch über eine ausgeklügelte Beleuchtungsausrüstung, die entwickelt wurde, um gleichmäßiges und hochintensives Licht auf die Waferoberfläche zu liefern. Das System ist mit einer Reihe von Beleuchtungsmodi ausgestattet, einschließlich Off-Axis und ringförmige Beleuchtung, die auf die spezifischen Anforderungen des Lithographie-Prozesses angepasst werden kann. Diese Flexibilität ermöglicht es dem Gerät, die Belichtungsbedingungen für verschiedene Arten von Mustern und Materialien zu optimieren und die Leistung und Ausbeute des Lithographieprozesses zu maximieren. Die NIKON NSR 2205 iL1 verfügt neben ihren erweiterten Bildgebungs- und Ausrichtungsfunktionen über eine umfassende Palette von Prozesssteuerungs- und Überwachungswerkzeugen. Die Maschine bietet eine Echtzeit-Überwachung kritischer Prozessparameter wie Dosis, Fokus und Overlay, so dass Bediener Abweichungen von Zielwerten erkennen und korrigieren können, bevor sie sich auf die Produktqualität auswirken. Dieser proaktive Ansatz zur Prozesskontrolle minimiert das Fehlerrisiko und verbessert die gesamte Produktionseffizienz. Insgesamt stellt NSR 2205 iL1 Wafer Stepper eine hochmoderne Lithographielösung für die fortschrittliche Halbleiterherstellung dar. Mit seinen erweiterten Bildgebungs-, Ausrichtungs- und Prozesssteuerungsfunktionen ist dieses Tool gut für Serienumgebungen geeignet, die eine präzise Strukturierung von Sub-50nm-Funktionen erfordern. Durch die Integration modernster Technologie mit innovativen Funktionen ermöglicht NIKON NSR 2205 iL1 Halbleiterherstellern höchste Leistung, Produktivität und Ausbeute bei der Produktion von Geräten der nächsten Generation.
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