Gebraucht NIKON NSR 4425i #293606712 zu verkaufen

Hersteller
NIKON
Modell
NSR 4425i
ID: 293606712
Stepper Resolution: 0.7 NA: 0.3 Exposure wave length: i-Line Reduction: 1/2.5 Expose field: 44 x 44.
NIKON NSR 4425i ist ein hochmoderner Wafer-Stepper zur Halbleiterherstellung. Es ist einzigartig mit großer Optik und einer großen FEG-Elektronenquelle ausgestattet, die die Verarbeitung großer Substrate ermöglicht. Die optische Einrichtung von NIKON NSR-4425I besteht aus einer hochwertigen Objektivlinse, einem Beleuchter und einem Strahlteilersystem, das den Strahl in zwei unterschiedliche optische Bahnen aufteilt. Die Objektivlinse ermöglicht eine hochauflösende Abtastung innerhalb des Substrats, während der Beleuchter eine gleichförmige Strahlintensität über das Substrat erzeugt. Die strahlgeteilte Einheit unterteilt den Strahl in zwei optische Bahnen, so dass zwei verschiedene Stellen eines Substrats gleichzeitig abgebildet werden können. Dies ermöglicht einen erhöhten Durchsatz und eine bessere Gleichmäßigkeit des Substrats bei der Herstellung. Die FEG-Elektronenquelle in NSR 4425 I bietet energieeffizientere Elektronen als herkömmliche Feldemissionsquellen, wodurch Substrate schneller und genauer verarbeitet werden können. Zusätzlich liefert die FEG-Quelle reduzierte Rauschpegel und eine kürzere Elektronenimpulsbreite - zusammen ermöglichen diese eine verbesserte Bildgebungsleistung auf dem Wafer-Stepper. NSR-4425I ist mit einer umfassenden Steuerungsmaschine ausgestattet, die sowohl den Fernbetrieb als auch die lokale Bedienung und Verwaltung der Maschine ermöglicht. Es unterstützt eine Reihe von Form-Layouts, einschließlich polygonale, Linie und Kurve, sowie mehrere Muster Verschiebung und Overlay-Steuerung Operationen. Zusätzlich kann der Anwender Prozessgeschwindigkeiten bis zu 20-mal größer als Systeme mit anderen Elektronenquellen auswählen. Zusammenfassend ist NIKON NSR 4425 I ein fortschrittlicher Wafer-Stepper, der für die anspruchsvollsten Halbleiterherstellungsprozesse entwickelt wurde. Es kombiniert ein hochauflösendes optisches Werkzeug mit erhöhter Elektronenleistung und einer umfassenden Steuerung, die einen schnelleren Durchsatz und bessere Ergebnisse in der Substratverarbeitung bietet.
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