Gebraucht NIKON NSR G6D #293652746 zu verkaufen
URL erfolgreich kopiert!
NIKON NSR G6D ist ein hochentwickelter Wafer-Stepper, der eine hochauflösende Mikrostrukturierung von Halbleiter- und Photomaskenmaterialien ermöglicht. Das Gerät bietet eine breite Palette von Funktionen, um die Herstellung winziger Schaltungen und anderer Strukturen auf Halbleitermaterialien auf sehr zuverlässige und kostengünstige Weise zu unterstützen. Das G6D ist mit einer 9-Achsen-Bühnenstruktur und einer ultrapräzisen 100-mnm-Stufe-x-Wiederholbarkeit ausgestattet. Dies ermöglicht eine außerordentlich präzise Bewegung des Arbeitsfeldes über die Bühne und ermöglicht eine größere Bildüberlagerungsgenauigkeit. Dadurch kann das System hochgenaue Muster auf dem Substrat erzeugen. Zusätzlich wird eine einzigartige, doppelte Ausrichteinheit verwendet, die zwei unabhängige Stepper verwendet, um die vollständige Genauigkeit und Ausrichtung während des Betriebs zu gewährleisten. Darüber hinaus ist NSR G6D mit einer Reihe fortschrittlicher Softwarefunktionen ausgestattet, mit denen Benutzer die Kapazität ihrer Maschine maximieren können. Dazu gehören Funktionen wie Musterstapelung, Leaser-Sperre und Markierungsausrichtung. Es enthält auch eine eingebettete Bibliothek, mit der Benutzer häufig verwendete Muster speichern und schnell darauf zugreifen können, und einen Mustersimulationsmodus, um das Muster auf der Ebene zu simulieren, bevor es tatsächlich gedruckt wird. Neben seinen hervorragenden Leistungsmerkmalen bietet das G6D eine Reihe von Sicherheitsmerkmalen, darunter verbessertes Wärmemanagement und automatische Abschaltbarkeit. Dies gewährleistet eine sichere Arbeitsumgebung für Bediener sowie eine verbesserte Betriebszeit des Werkzeugs. Darüber hinaus verfügt der Stepper über ein digitales Alignment-Asset und ein integriertes hochauflösendes Imaging-Modell, das eine präzise und zuverlässige Verarbeitung von Substraten aus einer Vielzahl von Materialien ermöglicht. Insgesamt ist NIKON NSR G6D eine außerordentlich zuverlässige und präzise Wafer-Schritteinrichtung für die Halbleiter- und Photomaskenbearbeitung. Es bietet eine genaue und präzise Bühnenbewegung, ausgezeichnete Musterüberlagerungsgenauigkeit, Musterstapelung mit hoher Kapazität und eine Reihe von Funktionen, um einen sicheren Betrieb und eine verbesserte Betriebszeit zu gewährleisten. Darüber hinaus sorgen die automatische Abschaltbarkeit und das verbesserte Wärmemanagement für eine sichere Arbeitsumgebung für die Betreiber.
Es liegen noch keine Bewertungen vor