Gebraucht NIKON NSR G7 #9226167 zu verkaufen

NIKON NSR G7 ist ein Top-of-the-Line Wafer Stepper (Stepper Lithographie Ausrüstung) für die Herstellung von integrierten Schaltungen verwendet. Es verfügt über ein fortschrittliches Projektionsbildsystem, das die Projektion von bis zu 15million Auflösungselementen auf ein Wafersubstrat ermöglicht. Es hat eine High-End-Auflösung von 4 nm, Stereo-Lithographie-Messung bis 5 nm, High-Speed-Scan-Fähigkeit von bis zu 800 Wafer pro Stunde und Nanopositioniergenauigkeit innerhalb von 0,2 μ m. Die Steuereinheit von NSR G7 umfasst einen zweidimensionalen optischen Scanner, eine Projektionsmaschine mit variabler Vergrößerung und NIKON Pattern Generator (NPG). Der optische Scanner ermöglicht eine zuverlässige Bildgebung mit einer 10-mal höheren Bildgebungsrate als bei früheren Systemen. Das Projektionswerkzeug verfügt über eine hohe Genauigkeit für die Steuerung kritischer Dimensionen (CD) und beinhaltet die NIKON proprietäre Variable Magnification Asset (VMS) Technologie. Mit dem VMS kann der Anwender die ideale Vergrößerung für verschiedene Prozesse auswählen. Das NPG erzeugt präzise Muster mit ausgezeichneter Wiederholbarkeit für noch kleinere Muster. NIKON NSR G7 nutzt fortschrittliche NIKON-Prozesse, einschließlich spiegelloser automatischer Ausrichtung, hochempfindlicher Mustergenerator und Prozesssteuerungssoftware für weitere verbesserte Fertigungsfähigkeit. Durch die spiegellose automatische Ausrichtung entfällt die manuelle Ausrichtung mit einer Referenzmarke. Diese Fähigkeit ermöglicht eine schnellere Herstellung von hochdichten Konstruktionen auf demselben Wafer. Der NPG Pattern Generator bietet eine große Flexibilität bei der Erzeugung von Mustern in Advanced-Node-Lithographie-Prozessen mit bis zu 40% Produktivitätsverbesserung. Um die Zeit für Prozessoptimierungsaufgaben zu reduzieren, ermöglicht die Prozesssteuerungssoftware die automatische Anpassung und Optimierung von Prozessen, ohne ein Programm schreiben zu müssen. NSR G7 ist auch mit einer fortschrittlichen Modellarchitektur für Wafer-zu-Wafer-Ausrichtung ausgestattet, die eine Platzierungsgenauigkeit von 1 μ m für die großen Scanfelder ermöglicht. Infolgedessen bietet es einen hohen Durchsatz, eine ausgezeichnete Durchsatzgleichförmigkeit und eine höhere Überlagerungsgenauigkeit über ein breites Ansichtsfeld. Das Gerät verfügt auch über ein gründliches Auto-Chucking-System, das Tausende von Wafern für die Verarbeitung sichert und hohe Effizienz fördert. Insgesamt ist NIKON NSR G7 eine fortschrittliche Lithographieeinheit mit extremer Genauigkeit, hoher Auflösung und vielen Fähigkeiten in einer zuverlässigen Maschine. Es ist eine ideale Wahl für eine Vielzahl von Fertigungsprozessen vom Spitzenhersteller bis zur Massenproduktionsmenge.